[發明專利]一種基于樹形控制的櫻桃栽培方法無效
| 申請號: | 201210220607.1 | 申請日: | 2012-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN102715055A | 公開(公告)日: | 2012-10-10 |
| 發明(設計)人: | 樊厚宏 | 申請(專利權)人: | 句容市春來早果品專業合作社 |
| 主分類號: | A01G17/00 | 分類號: | A01G17/00 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 212400 江蘇省鎮江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 樹形 控制 櫻桃 栽培 方法 | ||
技術領域
本發明涉及果樹栽培領域,具體地說涉及一種基于樹形控制的櫻桃栽培方法。
背景技術
櫻桃是薔薇科李屬植物,果實色澤鮮艷營養豐富,作為可食用的水果受到廣大消費群體的喜愛。櫻桃喜光性非常強,生長旺盛,樹冠大,因而可能導致樹冠郁閉,影響果實產量和品質。
櫻桃的樹形修剪是櫻桃栽培非常重要的環節,現有的修剪方法包括自然叢狀形、自然開心形、主干疏層形,自然叢狀形主枝較多,主枝衰老后利用萌蘗更新,枝型角度較開張,成型快,但容易樹冠郁閉;自然開心形主枝在3~5個,主枝上側枝有6~7個,整個樹冠呈圓形,這種樹形樹冠開張,容易修剪,櫻桃產量高,但透光性一般,果實質量欠佳;主干疏層形將櫻桃樹干份為3~4層,具有中央領導干,依層對側枝進行修剪和管理,但這種方法對技術條件要求太嚴格,修剪量大,前期產量低。
發明內容
發明目的:本發明的目的是提供一種基于新的樹形控制的櫻桃栽培方法。
技術方案:為了實現上述發明目的,本發明的一種基于樹形控制的櫻桃栽培方法通過4年的樹形控制實現對櫻桃樹的整形,具體包括:
櫻桃苗木定植后,第一年在發芽前控制主干高度在60~70cm,中心干設有10~12個主枝,保護中心干剪口枝,加強肥水;
第二年春中心干留70~80cm進行短截,保留剪口芽,對主干基部旺盛的枝干進行重短截,8~9月份對各分枝進行拉枝,加強肥水;
第三年同樣對中心干留70~80cm進行短截,對二年生枝的新梢及側生枝梢摘心,培養結果枝組;
第四年對新梢及側生枝繼續摘心,待中心干達到預定高度時進行開心。待到第五年進入果樹豐產期,樹形基本穩定,可保證較好的通風、透光和枝葉密度。
本發明在樹形控制上以拉枝為主,其特點是具有中心干,主枝于中心干上散開交錯排列,經拉枝后與中心干形成70~90°的夾角,保留較少的側枝。
進入第二年春,將中心干下的分枝拉平作為主枝培養;第二年和第三年的秋季拉枝,將下部主枝上所有分枝都拉成70~90°。
拉枝時將中心干周圍的枝條向外面不同方向輻射拉開,使上下枝條不重疊。
第三年將主枝拉枝作為結果枝組,追施磷鉀肥;第四年待結果枝組的新梢長到15厘米時,留10厘米摘心,使結果枝組形成花束狀果枝或中果枝或短果枝。
本發明通過對中心干開心,以改善內膛的光照,增加透光率,可防止櫻桃因樹冠茂盛而影響果實發育。
有益效果:本發明的一種基于樹形控制的櫻桃栽培方法基于中心干和較多主枝進行拉枝和修剪,去掉側枝,以拉枝后的主枝作為結果枝組,到第四年開心成型。本發明有效防止枝條之間交錯重疊,去掉側枝可防止樹冠過于茂盛,開心可改善內膛光照,提高了櫻桃樹果實的結果率和果實品質。
具體實施方式
本發明的通過4年的樹形控制實現對櫻桃樹的整形,具體包括:
櫻桃苗木定植后,第一年在發芽前控制主干高度在60~70cm,中心干設有10~12個主枝,保護中心干剪口枝,加強肥水。
第二年春中心干留70~80cm進行短截,保留剪口芽,對主干基部旺盛的枝干進行重短截(截去一年生枝的2/3),8~9月份對各分枝進行拉枝,拉枝時以拉平為主,即90°,同時加強肥水,將中心干下的分枝拉平作為主枝培養;到秋季再次拉枝,將下部主枝上所有分枝都拉成70~90°。拉枝時將中心干周圍的枝條向外面不同方向輻射拉開,使上下枝條不重疊。
第三年同樣對中心干留70~80cm進行短截,對二年生枝的新梢及側生枝梢摘心,培養結果枝組。于秋季拉枝,將下部主枝上所有分枝都拉成70~90°。拉枝時將中心干周圍的枝條向外面不同方向輻射拉開,使上下枝條不重疊。將主枝拉枝作為結果枝組,追施磷鉀肥;
第四年對新梢及側生枝繼續摘心,待結果枝組的新梢長到15厘米時,留10厘米摘心,使結果枝組形成花束狀果枝或中果枝或短果枝,待中心干達到預定高度時進行開心,以改善內膛的光照,增加透光率,可防止櫻桃因樹冠茂盛而影響果實發育。。
第五年進入果樹豐產期,樹形基本穩定,可保證較好的通風、透光和枝葉密度。
以上所述僅是本發明的優選實施方式,應當指出:對于本技術領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明原理的前提下,還可以做出若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也應視為本發明的保護范圍。
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