[發明專利]一種適用于低下壓力的硅晶片精拋光組合液及其制備方法

有效

• 申請號: 201210217759.6
• 申請日: 2012-06-28
• 公開（公告）號: CN102766408A
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發明（設計）人: 龔樺;顧忠華;鄒春莉;陳高攀;潘國順
• 申請（專利權）人: 深圳市力合材料有限公司;清華大學;深圳清華大學研究院
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 廖元秋

1.一種適用于低下壓力的硅晶片精拋光組合液，其特征在于，該精拋組合液包括膠體二氧化硅磨粒、拋光促進劑、拋光界面控制劑、表面活性劑、堿性化合物和去離子水；該精拋光組合液的pH值為8～12。

2.根據權利要求1所述的精拋光組合液，其特征在于，該精拋光組合液的組分配比為：

膠體二氧化硅磨粒?????????2～12wt%；

拋光促進劑??????????0.002～0.5wt%；

拋光界面控制劑??????0.002～0.4wt%；

表面活性劑??????????0.002～0.4wt%；

堿性化合物??????????????0.2～4wt%；

去離子水?????????????????????余量。

3.根據權利要求1或2所述的精拋光組合液，其特征在于，所述的膠體二氧化硅磨粒的粒徑為18～80nm。

4.根據權利要求1或2所述的精拋光組合液，其特征在于，所述的拋光界面控制劑為二羥基纖維素醚（DHPC）和三羥基纖維素醚(MHBC)其中的一種或兩種。

結構式為：

其中，n為≥2的整數，

或者?。

5.根據權利要求1或2所述的精拋光組合液，其特征在于，所述的拋光促進劑為季銨鹽或季銨堿。

6.根據權利要求5所述的精拋光組合液，其特征在于：所述的拋光促進劑為四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、三-（2-羥乙基）甲基氫氧化銨、?四甲基鹵化銨、四乙基鹵化銨、四丙基鹵化銨、四丁基鹵化銨、四甲基溴化銨、四乙基溴化銨、四丙基溴化銨、四丁基溴化銨中的一種或幾種。

7.根據權利要求1或2所述的精拋光組合液，其特征在于：所述的表面活性劑為聚氧乙烯醚類非離子表面活性劑，所述的聚氧乙烯醚類非離子表面活性劑為脂肪醇聚氧乙烯醚、異構十醇聚氧乙烯醚、異構醇與環氧乙烷縮合物、烷基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、十八胺聚氧乙烯醚、十二胺聚氧乙烯醚、蓖麻油聚氧乙烯醚中的一種或幾種。

8.根據權利要求1或2所述的精拋光組合液，其特征在于：所述的堿性化合物為，氫氧化鉀、氫氧化鈉、碳酸銨、碳酸氫銨、碳酸氫鉀、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸鈉、氨水、氨基丙醇、無水哌嗪或六水哌嗪中的一種或幾種。

9.根據權利要求1或2所述的精拋光組合液，其特征在于：所述的膠體二氧化硅磨粒為5wt%，拋光界面控制劑二羥基纖維素醚為0.2wt%，拋光促進劑四甲基氫氧化銨為0.04wt%，表面活性劑辛基酚聚氧乙烯醚為0.004wt%，堿性化合物氨水為0.6wt%，去離子水余量。

10.一種適用于低下壓力的硅晶片精拋光組合液的制備方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

按照如權利要求2所述的各組分重量百分比，將膠體二氧化硅分散于去離子水中，并用攪拌器充分攪拌；

加入拋光界面控制劑，在攪拌器中使其與膠體二氧化硅磨粒充分混合；

依次加入拋光促進劑、表面活性劑和堿性化合物，并將精拋光組合液pH調節至8～12；

用孔徑為0.5μm以下的濾芯對精拋光組合液進行過濾，去除精拋光組合液中的大顆粒雜質。?