[發明專利]直接在鈦基底上生長氧化鎳、氧化鈷及其復合物儲能材料無效
| 申請號: | 201210216523.0 | 申請日: | 2012-06-18 |
| 公開(公告)號: | CN102719811A | 公開(公告)日: | 2012-10-10 |
| 發明(設計)人: | 肖鵬;楊飛;周明;姚建玉;張云懷;蒙小琴;李小玲;王志峰;袁履輝 | 申請(專利權)人: | 重慶大學 |
| 主分類號: | C23C18/12 | 分類號: | C23C18/12;C25D11/26 |
| 代理公司: | 北京瑞盟知識產權代理有限公司 11300 | 代理人: | 趙秉森 |
| 地址: | 400030*** | 國省代碼: | 重慶;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 直接 基底 生長 氧化 氧化鈷 及其 復合物 材料 | ||
1.直接在鈦基底上生長氧化鎳、氧化鈷及其復合物儲能材料的方法,其特征在于,包括以下步驟:
a、鈦基底的處理:將鈦片依次在稀鹽酸、無水乙醇和去離子水中分別超聲清洗5~10min,將清洗晾干后的鈦片作為陽極,鉑片作為陰極置于0.05~0.5mol/L的HF溶液中,在10~30V的電壓下常溫反應1.0h,在鈦基底表面制得二氧化鈦納米管(TiO2NT),再將所得的TiO2NT在氮氣氛圍中焙燒3h,焙燒溫度為400~500℃,以改善TiO2NT的導電性;
b、將a步驟處理過的鈦基底在檸檬酸溶液中(PH=1.5)浸泡12~24h,以增加TiO2NT管壁羥基的數量;
c、金屬鹽溶液的配置:將一定量的水合過渡金屬鹽溶于水中,配制成濃度范圍為0.02mol/L~0.08mol/L的溶液;
d、前軀體溶液:稱取一定量的尿素溶于c溶液中,保持過渡金屬鹽與尿素的物質的量之比為1∶5;
e、將經過b步驟處理過的鈦基底正面朝下,與反應釜內襯呈45°傾斜置于容積為50ml的聚四氟乙烯反應釜內襯中,再將c步驟的溶液30ml轉移至該聚四氟乙烯反應釜內襯中;
f、將e步驟的反應釜置于烘箱中,在90~160℃下,反應8~16h;
g、取出f中鈦基底,分別用去離子水和乙醇沖洗,干燥后于300~400℃的N2氣氛下焙燒3h;
所述水合金屬鹽為水合鎳鹽、水合鈷鹽、水合鎳鹽和水合鈷鹽的混合鹽。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法,例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍,即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理





