[發明專利]旋轉陽極的具有微結構的光軌道

有效

• 申請號: 201210216506.7
• 申請日: 2012-06-27
• 公開（公告）號: CN102856144B
• 公開（公告）日: 2017-01-18
• 發明（設計）人: J.弗羅伊登伯格;S.蘭彭舍夫;W.沙夫;S.沃爾特
• 申請（專利權）人: 西門子公司
• 主分類號: H01J35/10
• 分類號: H01J35/10;H01J9/02;A61B6/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 郝俊梅

1.一種旋轉陽極（1），具有光軌道（3），所述光軌道具有存在于其表面（2）上的微結構（4），其特征為：所述微結構（4）借助反應性離子深度蝕刻制成。

2.按照權利要求1所述的旋轉陽極（1），其特征在于，所述微結構（4）具有的深度（t）至少約40微米，尤其至少約50微米。

3.按照權利要求2所述的旋轉陽極（1），其特征在于，所述微結構（4）具有的深度（t）約達150微米，尤其約達100微米。

4.按照前列諸權利要求之一所述的旋轉陽極（1），其特征在于，所述微結構（4）具有的寬度（b）在2微米與15微米之間，尤其在3微米與10微米之間，尤其在5微米與10微米之間。

5.按照前列諸權利要求之一所述的旋轉陽極（1），其特征在于，所述微結構（4）具有至少一個溝（5）。

6.按照權利要求5所述的旋轉陽極（1），其特征在于，所述微結構（4）具有多個布設成網格模式的溝（5）。

7.按照權利要求6所述的旋轉陽極（1），其特征在于，基本上互相平行延伸的相鄰溝（5）的間距（d）在約100微米與300微米之間。

8.按照權利要求6至7之一所述的旋轉陽極（1），其特征在于，所述溝（5）的寬度（b）與基本上平行延伸的相鄰溝（5）的間距（d）之比至少等于0.1。

9.按照前列諸權利要求之一所述的旋轉陽極（1），其特征在于，所述光軌道（3）具有鎢。

10.一種尤其醫學用途的X射線設備（R），其特征在于，X射線設備（R）具有至少一個按照前列諸權利要求之一所述的旋轉陽極（1）。

11.一種用于制造旋轉陽極（1）的方法，其特征在于，本方法包括借助反應性離子深度蝕刻在旋轉陽極（1）的光軌道（3）的表面（2）內加工微結構（4）。