[發明專利]一種太陽能中高溫選擇性吸熱涂層

有效

• 申請號: 201210214392.2
• 申請日: 2012-06-26
• 公開（公告）號: CN102734956A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 侯乃升;徐剛;熊斌;呂錫山
• 申請（專利權）人: 四川中科百博太陽能科技有限公司
• 主分類號: F24J2/46
• 分類號: F24J2/46;F24J2/48
• 代理公司: 廣州科粵專利商標代理有限公司 44001
• 代理人: 莫瑤江

1.一種太陽能中高溫選擇性吸熱涂層，涂布在太陽能元件的基底上，涂層自基底向上包括紅外反射層、吸收層、介質減反層，其特征在于所述紅外反射層為鋁合金層M_xAl_1-x，其中M選自Si、Cr、Ni中的一種；所述吸收層是鋁合金填充的鋁合金的氮化物或氧化物或氮氧化物，吸收層采取兩層或兩層以上疊加而成，從紅外反射層向上各層的Al合金在吸收層中的填充因子依次降低，各層分別選自不同x和y的（M_xAl_1-x）_y—M_xAl_1-xN,（M_xAl_1-x）_y—M_xAl_1-xO，（M_xAl_1-x）?_y—M_xAl_1-xON三種薄膜中的一種、兩種或三種，其中下標y代表該種Al合金在吸收層中的填充因子。

2.如權利要求1所述的太陽能中高溫選擇性吸熱涂層，其特征在于，所述太陽能紅外反射層為M_xAl_1-x合金層，x的變化范圍為0.25~0.65，采用M_xAl_1-x合金靶濺射制備。

3.如權利要求1所述的太陽能中高溫選擇性吸熱涂層，其特征在于，吸收層的三種薄膜（M_xAl_1-x）_y—M_xAl_1-xN,（M_xAl_1-x）_y—M_xAl_1-xO，（M_xAl_1-x）_y—M_xAl_1-xON,均由高填充因子和低填充因子組成，高填充因子為高吸收層，低填充因子為低吸收層。

4.如權利要求1所述的太陽能中高溫選擇性吸熱涂層，其特征在于，所述（M_xAl_1-x）_y-M_xAl_1-xN吸收層，采用M_xAl_1-x合金靶與N₂反應共濺射制備，x的變化范圍為0.25~0.65,y的變化范圍為0.02~0.6。

5.如權利要求1所述的太陽能中高溫選擇性吸熱涂層，其特征在于，所述（M_xAl_1-x）_y-M_xAl_1-xO吸收層，采用M_xAl_1-x合金靶與O₂反應共濺射，x的變化范圍為0.25~0.65,y的變化范圍為0.02~0.6。

6.如權利要求1所述的太陽能中高溫選擇性吸熱涂層，其特征在于，所述（M_xAl_1-x）_y-M_xAl_1-xON吸收層采用M_xAl_1-x合金靶在氮氧混合氣氛中反應濺射，x的變化范圍為0.25~0.65,y的變化?范圍為0.02~0.6。

7.如權利要求1所述的太陽能中高溫選擇性吸熱涂層，其特征在于，所述（M_xAl_1-x）_y—M_xAl_1-xN,（M_xAl_1-x）_y—M_xAl_1-xON,（M_xAl_1-x）_y—M_xAl_1-xO三種薄膜的厚度分別在10~120nm之間。

8.如權利要求4-7之任一所述的太陽能中高溫選擇性吸熱涂層，其特征在于，所述高吸收層和低吸收層通過調整反應氣體N₂或O₂或氮氧混合氣氛的流量實現，高吸收層y值為0.2~0.6；低吸收層y值為0.05~0.2。?