[發明專利]用于真空斷續器的電極組件有效
| 申請號: | 201210212362.8 | 申請日: | 2012-06-21 |
| 公開(公告)號: | CN102842455A | 公開(公告)日: | 2012-12-26 |
| 發明(設計)人: | 柳在燮 | 申請(專利權)人: | LS產電株式會社 |
| 主分類號: | H01H33/66 | 分類號: | H01H33/66 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識產權代理有限公司 11225 | 代理人: | 黃威;張彬 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 真空 斷續 電極 組件 | ||
1.一種用于真空斷續器的電極組件,包括:
多個電極板,所述多個電極板中的每個均具有狹縫;
線圈導體,其布置在所述多個電極板之間;
多個導體連接銷,其安裝在每個電極板與所述線圈導體之間從而限定電流的導電通路;以及
支撐構件,其安裝在每個電極板與所述線圈導體之間從而相對所述線圈導體支撐所述電極板,
其中,安裝在所述線圈導體的兩側的所述支撐構件彼此部分地重疊同時在軸向上突出。
2.根據權利要求1所述的組件,其中,所述支撐構件中的至少一個定位成穿過所述電極板的狹縫。
3.根據權利要求2所述的組件,其中,每個電極板的所述狹縫沿著周向以均勻的間隔徑向地形成,并且
其中,布置在所述兩側的所述支撐構件安裝為使得兩端部定位在不同的位置處同時所述支撐構件在軸向上突出。
4.根據權利要求1所述的組件,其中,至少一個所述支撐構件形成為比在周向上鄰近的兩個狹縫之間的周向長度長。
5.根據權利要求1所述的組件,其中,所述支撐構件在每個電極板與所述線圈導體之間分別設置為多個,并且
其中,多個所述支撐構件彼此對稱并且每個所述支撐構件均具有弓形形狀。
6.根據權利要求1所述的組件,其中,在所述電極板和所述線圈導體中的至少一個處形成有固定凹槽,所述支撐構件插入所述固定凹槽中。
7.根據權利要求6所述的組件,其中,每個固定凹槽的深度比每個支撐構件的厚度淺。
8.根據權利要求6所述的組件,其中,所述固定凹槽設置為多個,多個所述固定凹槽在同一平面上是彼此對稱的,并且
其中,用于聯接所述導體連接銷的銷孔形成在多個所述固定凹槽之間。
9.根據權利要求8所述的組件,其中,所述銷孔形成在軸向上所述線圈導體的兩側,并且
其中,形成在所述線圈導體的兩側的所述銷孔位于不同的軸線上。
10.根據權利要求1所述的組件,其中,所述支撐構件釬焊至所述電極板和所述線圈導體中的至少一個上。
11.根據權利要求1至10中任一項所述的組件,其中,位于所述線圈導體的兩側的兩個電極板的狹縫基于軸向形成在不同的直線上。
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