[發(fā)明專利]用于光電組件的冷卻板、其制備方法以及包括該冷卻板的光電組件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210211883.1 | 申請日: | 2012-06-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102838767A | 公開(公告)日: | 2012-12-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金賢哲;程在植 | 申請(專利權(quán))人: | LG化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C08J7/04 | 分類號(hào): | C08J7/04;C08J7/00;C08L33/02;H01L31/052;H01L31/024 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;陳國軍 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 光電 組件 冷卻 制備 方法 以及 包括 | ||
1.一種用于光電組件的冷卻板,其包括樹脂層,該樹脂層包含含有液體的高吸水性聚合物(SAP)。
2.如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述樹脂層是在多孔基板的一個(gè)表面上形成的涂層。
3.如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述樹脂層是用所述含有液體的SAP浸漬的多孔基板。
4.如權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的用于光電組件的冷卻板,其進(jìn)一步包括在所述樹脂層的一個(gè)或兩個(gè)表面上形成的多孔基板。
5.如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板,其能夠通過放出所述光電組件中產(chǎn)生的熱量而抑制所述光電組件溫度的升高。
6.如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述液體為選自水、醇和離子液體中的至少一種。
7.如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述SAP的吸水量為10g/g到500g/g。
8.如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述SAP的吸水量為50g/g到200g/g。
9.如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述SAP為選自聚丙烯酸、聚丙烯酸酯、聚丙烯酸酯接枝聚合物、淀粉、交聯(lián)的羧甲基化纖維素、丙烯酸共聚物、水解淀粉-丙烯腈接枝共聚物、淀粉-丙烯酸接枝共聚物、皂化乙酸乙烯酯-丙烯酸酯共聚物、水解丙烯腈共聚物、水解丙烯酰胺共聚物、乙烯-馬來酸酐共聚物、異丁烯-馬來酸酐共聚物、聚(乙烯基磺酸酯)、聚(乙烯基膦酸酯)、聚(乙烯基磷酸酯)、聚(乙烯基硫酸酯)、磺化聚苯乙烯、聚乙烯胺、聚二烷基氨基烷基(甲基)丙烯酰胺、聚乙烯亞胺、聚芳基胺、聚芳基胍、聚二甲基二芳基氫氧化銨、季銨化聚苯乙烯衍生物、胍改性的聚苯乙烯、季銨化聚(甲基)丙烯酰胺、聚乙烯胍及其混合物中的至少一種。
10.如權(quán)利要求9所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述丙烯酸共聚物包括:丙烯酸單體和選自馬來酸、衣康酸、丙烯酰胺、2-丙烯酰胺-2-甲基丙烷磺酸、2-(甲基)丙烯酰基乙烷磺酸、2-羥乙基(甲基)丙烯酸酯和苯乙烯磺酸中的至少一種共聚單體的共聚物。
11.如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述冷卻板的厚度為0.1mm到100mm。
12.如權(quán)利要求2或3所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述多孔基板為選自無紡織物、網(wǎng)狀物和泡沫狀物中的至少一種
13.如權(quán)利要求12所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述多孔基板為選自基于氟的無紡織物、基于聚酯的無紡織物、基于聚丙烯的無紡織物、基于人造絲的無紡織物、基于尼龍的無紡織物、基于聚酯的網(wǎng)狀物、基于聚丙烯的的網(wǎng)狀物、基于人造絲的網(wǎng)狀物、基于尼龍的網(wǎng)狀物和聚氨酯泡沫狀物中的至少一種。
14.如權(quán)利要求2或3所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述多孔基板的厚度為0.01mm到10mm。
15.如權(quán)利要求1或2所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述樹脂層、所述多孔基板或者所述樹脂層和多孔基板進(jìn)一步包括導(dǎo)熱性填料。
16.如權(quán)利要求15所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述導(dǎo)熱性填料為選自無機(jī)氧化物填料、金屬氫氧化物填料、無機(jī)碳化物填料、氮化物填料、金屬填料和碳填料中的至少一種。
17.如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板,其中,所述樹脂層進(jìn)一步包括含有液體的漿狀物。
18.一種制造如權(quán)利要求1所述的用于光電組件的冷卻板的方法,該方法包括以下步驟:形成包含含有液體的高吸水性聚合物(SAP)的樹脂層。
19.如權(quán)利要求18所述的方法,其中,所述樹脂層的形成步驟包括:將SAP與液體混合以制備含有液體的SAP,然后用所述含有液體的SAP涂覆多孔基板的一個(gè)表面以形成樹脂層。
20.如權(quán)利要求18所述的方法,其中,所述樹脂層的形成步驟包括:
用SAP涂覆多孔基板的一個(gè)表面;以及
將涂覆有SAP的多孔基板浸入到液體中。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于LG化學(xué)株式會(huì)社,未經(jīng)LG化學(xué)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210211883.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:田地覆膜蓋膜一體機(jī)
- 下一篇:一種怠速電機(jī)





