[發明專利]太赫茲波產生裝置、相機、成像裝置和測量裝置

無效

• 申請號: 201210210995.5
• 申請日: 2012-06-20
• 公開（公告）號: CN102842839A
• 公開（公告）日: 2012-12-26
• 發明（設計）人: 富岡纮斗
• 申請（專利權）人: 精工愛普生株式會社
• 主分類號: H01S1/02
• 分類號: H01S1/02;G01J1/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 舒艷君;李洋

1.一種太赫茲波產生裝置，其特征在于，具備：

第1光源和第2光源，產生脈沖光；和

天線，被由所述第1光源和所述第2光源產生的脈沖光照射而產生太赫茲波，

所述天線具有隔著間隔而對置配置的一對電極，

所述第1光源和所述第2光源被構成為，相互錯開時刻來對所述一對電極間照射脈沖光。

2.根據權利要求1所述的太赫茲波產生裝置，其特征在于，

所述脈沖光的照射時刻的錯開量小于該脈沖光的脈沖寬度。

3.根據權利要求1或2所述的太赫茲波產生裝置，其特征在于，

所述第1光源和所述第2光源分別是半導體激光器。

4.根據權利要求1～3中的任意一項所述的太赫茲波產生裝置，其特征在于，

所述第1光源和所述第2光源被一體化。

5.一種太赫茲波產生裝置，其特征在于，具備：

第1光源、第2光源、第3光源和第4光源，產生脈沖光；和

天線，被由所述第1光源、所述第2光源、所述第3光源和所述第4光源產生的脈沖光照射而產生太赫茲波，

所述天線具有隔著間隔而對置配置的第1一對電極和第2一對電極，

所述第1光源和所述第2光源被構成為，相互錯開時刻來對所述第1一對電極間照射脈沖光，

所述第3光源和所述第4光源被構成為，相互錯開時刻來對所述第2一對電極間照射脈沖光，

從所述第1光源發出的脈沖光和從所述第2光源發出的脈沖光中的至少一個、與從所述第3光源發出的脈沖光和從所述第4光源發出的脈沖光中的至少一個的相位不同。

6.根據權利要求5所述的太赫茲波產生裝置，其特征在于，

對所述第1一對電極間照射的脈沖光的照射時刻的錯開量小于該脈沖光的脈沖寬度，對所述第2一對電極間照射的脈沖光的照射時刻的錯開量小于該脈沖光的脈沖寬度。

7.根據權利要求5或6所述的太赫茲波產生裝置，其特征在于，

從所述第1光源發出的脈沖光以及從所述第2光源發出的脈沖光、和從所述第3光源發出的脈沖光以及從所述第4光源發出的脈沖光的相位互不相同的脈沖光彼此的錯開量小于該脈沖光的脈沖寬度。

8.根據權利要求5～7中的任意一項所述的太赫茲波產生裝置，其特征在于，

所述第1光源、所述第2光源、所述第3光源和所述第4光源分別是半導體激光器。

9.根據權利要求5～8中的任意一項所述的太赫茲波產生裝置，其特征在于，

所述第1光源、所述第2光源、所述第3光源和所述第4光源被一體化。

10.根據權利要求5～9中的任意一項所述的太赫茲波產生裝置，其特征在于，

所述第1一對電極中的一個與所述第2一對電極中的一個電連接。

11.一種相機，其特征在于，具備：

太赫茲波產生裝置，產生太赫茲波；和

太赫茲波檢測裝置，對從所述太赫茲波產生裝置射出、并透過對象物或被對象物反射的太赫茲波進行檢測，

所述太赫茲波產生裝置具備：第1光源以及第2光源，產生脈沖光；和天線，被由所述第1光源和所述第2光源產生的脈沖光照射而產生太赫茲波，

所述天線具有隔著間隔而對置配置的一對電極，

所述第1光源和所述第2光源被構成為，相互錯開時刻來對所述一對電極間照射脈沖光。

12.一種成像裝置，其特征在于，具備：

太赫茲波產生裝置，產生太赫茲波；

太赫茲波檢測裝置，對從所述太赫茲波產生裝置射出、并透過對象物或被對象物反射的太赫茲波進行檢測；和

圖像形成部，根據所述太赫茲波檢測裝置的檢測結果來生成所述對象物的圖像，

所述太赫茲波產生裝置具備：第1光源以及第2光源，產生脈沖光；和天線，被由所述第1光源和所述第2光源產生的脈沖光照射而產生太赫茲波，

所述天線具有隔著間隔而對置配置的一對電極，

所述第1光源和所述第2光源被構成為，相互錯開時刻來對所述一對電極間照射脈沖光。

13.一種測量裝置，其特征在于，具備：

太赫茲波產生裝置，產生太赫茲波；

太赫茲波檢測裝置，對從所述太赫茲波產生裝置射出、并透過對象物或被對象物反射的太赫茲波進行檢測；和

測量部，根據所述太赫茲波檢測裝置的檢測結果來對所述對象物進行測量，

所述太赫茲波產生裝置具備：第1光源以及第2光源，產生脈沖光；和天線，被由所述第1光源和所述第2光源產生的脈沖光照射而產生太赫茲波，

所述天線具有隔著間隔而對置配置的一對電極，

所述第1光源和所述第2光源被構成為，相互錯開時刻來對上述一對電極間照射脈沖光。