[發(fā)明專利]一種去除半導(dǎo)體硅片表面缺陷的拋光組合物及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210209832.5
• 申請(qǐng)日: 2012-06-25
• 公開（公告）號(hào): CN102766406A
• 公開（公告）日: 2012-11-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳高攀;顧忠華;龔樺;鄒春莉;潘國順
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市力合材料有限公司;深圳清華大學(xué)研究院;清華大學(xué)
• 主分類號(hào): C09G1/02
• 分類號(hào): C09G1/02
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 廖元秋

1.一種去除半導(dǎo)體硅片表面缺陷的拋光組合物，其特征在于，該組合物包括膠體二氧化硅磨粒、拋光加速劑、表面保護(hù)劑、分散劑、pH調(diào)節(jié)劑，所述的組合物的pH值為8.0～10.5。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光組合物，其特征在于，該組合物組分的含量為：

膠體二氧化硅磨粒：5～80wt%；

拋光加速劑：0.01～20wt%；

表面保護(hù)劑：0.001～2wt%；

分散劑：0.001～2wt%；

pH調(diào)節(jié)劑：0.01～2wt%；

去離子水：余量。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光組合物，其特征在于，所述的拋光加速劑為，氫氧化鉀、氫氧化鈉、碳酸銨、碳酸氫銨、碳酸氫鉀、碳酸鉀、碳酸氫鈉、碳酸鈉、異丙醇胺、二異丙醇胺、氨基丙醇、四乙基胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、羥乙基乙二胺、六亞甲基二胺、二亞乙基三胺、三亞乙基四胺、無水哌嗪、六水哌嗪中的一種或幾種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光組合物，其特征在于，所述的表面保護(hù)劑為，聚氧乙烯醚非離子表面活性劑中的一種或幾種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的拋光組合物，其特征在于，所述的聚氧乙烯醚非離子表面活性劑為，聚氧乙烯(9)月桂醇醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚中的一種或幾種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光組合物，其特征在于，所述的分散劑為，聚乙烯醇、聚乙二醇、聚乙烯亞胺、聚氧化乙烯、聚丙烯酸和聚丙烯酰胺中的一種或幾種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光組合物，其特征在于，所述的pH調(diào)節(jié)劑為，羥基亞乙基二膦酸、氨基三亞甲基基膦酸、乙二胺四亞甲基膦酸、二乙三胺五亞乙基膦酸、二乙三胺五亞甲基膦酸、丙二胺四亞甲基膦酸、2-膦酸丁烷-1,2,4三羧酸、乙二胺四乙酸、丙二胺四乙酸、二乙基三胺五乙酸和三乙基四胺六乙酸中的一種或幾種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光組合物，其特征在于，所述的膠體二氧化硅的平均顆粒粒徑為10～100nm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光組合物，其特征在于，所述的膠體二氧化硅平均顆粒粒徑為40nm，含量20wt%，所述的拋光加速劑為1wt%的氫氧化鉀與5wt%的六水哌嗪，所述的分散劑為0.05wt%的聚乙烯醇，所述的表面保護(hù)劑為0.1wt%的脂肪醇聚氧乙烯醚，所述的pH調(diào)節(jié)劑0.02wt%的氨基三亞甲基基膦酸與0.02wt%的乙二胺四乙酸。

10.一種去除半導(dǎo)體硅片表面缺陷的拋光組合物的制備方法，其特征在于，該組合物的制備方法如下：

將膠體二氧化硅分散于去離子水中攪拌，得到濃度為5～80wt%的漿液；

在攪拌條件下，加入拋光加速劑0.01～20wt%、分散劑0.001～2wt%；

加入表面保護(hù)劑與pH調(diào)節(jié)劑的混合物，表面保護(hù)劑0.001～2wt%與pH調(diào)節(jié)劑0.01～2wt%分別占拋光組合物的，該拋光組合物的pH值為8.0～10.5；

繼續(xù)攪拌至混合均勻。