[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體硒膜的制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210209755.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102703946A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鞏江峰;張開驍;張博;朱衛(wèi)華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 河海大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C25D9/04 | 分類號(hào): | C25D9/04;H01L21/08 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 211100 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 半導(dǎo)體 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體膜的制備方法,特別涉及一種半導(dǎo)體硒膜的制備方法。
背景技術(shù)
硒(Se)是一種P型非本征半導(dǎo)體,間接帶隙約為1.6eV。由于硒具有很高的光導(dǎo)性、優(yōu)異的單向?qū)щ娦?光導(dǎo)率為8×104S/cm2)、靈敏的光響應(yīng)性、比較大的壓電效應(yīng)和熱電效應(yīng),因此它是一種相當(dāng)有用而且用得比較廣泛的一種無(wú)機(jī)材料。
目前,制備納米硒的方法很多,如:1.室溫/升溫還原法。Cao?X?Y等在室溫下采用NaBH4和Se反應(yīng)得到了Se的納米線和納米棒。廈門大學(xué)的謝兆雄教授研究組發(fā)現(xiàn)三方和單斜相的硒微球在乙醇中能自發(fā)地轉(zhuǎn)變成三方硒納米棒。2.回流法。華盛頓大學(xué)的夏幼南教授在升溫狀態(tài)下用過量的水合臍還原亞硒酸得到單分散的球形的非晶硒膠體。3.模板法。北京大學(xué)的齊利民教授研究組采用Na2SeS03在酸性條件和添加非離子表面活性劑的情況下發(fā)生歧化反應(yīng)獲得了Se的單晶納米帶。4.超聲化學(xué)法。華盛頓大學(xué)的夏幼南教授用水合胼還原亞硒酸得到非晶硒納米粒子,然后用超聲法處理非晶硒納米粒子合成出Se的納米線。5.水熱/溶劑熱法。中國(guó)科技大學(xué)錢逸泰研究組通過水熱/溶劑熱的方法,在不同溶劑中得到了各種形貌的單晶硒。Yang?D等用硒粉作為硒源,采用水熱和超聲相結(jié)合的方法還原得到硒納米線和硒納米管。6.其他方法。A?Nita等以硒塊體作硒源,采用升華的方法制得半導(dǎo)體硒納米晶薄層。Zhu?Y?J等‘95埔Y射線照射方法得到無(wú)定形的球形硒。Yu?D?P等以硒粉為原科,通過氣相增長(zhǎng)法合成了六方的硒納米線。這些方法制備出的納米結(jié)構(gòu)硒膜都沒有襯底,為其在光電性能方面的應(yīng)用帶來(lái)很大不便。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明目的:本發(fā)明的目的是提供一種電化學(xué)沉積制備半導(dǎo)體硒膜的方法。
技術(shù)方案:本發(fā)明提供的一種半導(dǎo)體硒膜的制備方法,包括以下步驟:
(1)電解液的配制:將含硒化合物溶于酸溶液或堿溶液,即得電解液;
(2)半導(dǎo)體硒膜的制備:以襯底作為工作電極,在電解液中進(jìn)行電化學(xué)沉積,沉積電位為-0.2~-2.0V,即得半導(dǎo)體硒膜。
其中,步驟(1)中,所述含硒化合物為SeO2、Na2SeO3或K2SeO3;所述酸溶液為硫酸水溶液或硝酸水溶液;所述堿溶液為氫氧化鈉水溶液或氫氧化鉀水溶液。
作為本發(fā)明半導(dǎo)體硒膜制備方法的一種優(yōu)選,所述酸溶液或堿溶液的濃度為0.1-3.0mol/L。
作為本發(fā)明半導(dǎo)體硒膜制備方法的另一種優(yōu)選,所述電解液中含硒離子的濃度2-100mmol/L,能夠得到均勻的半導(dǎo)體薄膜。
其中,步驟(2)中,所述襯底選自氧化銦錫(ITO)玻璃、摻氟的SnO2(FTO)玻璃、摻銻的SnO2(ATO)玻璃、摻鋁的ZnO(ZAO)玻璃、不銹鋼箔、Al箔、Cu箔、Ti箔、Mo箔或鍍有導(dǎo)電層的聚酰亞胺膜(PI膜)中的一種,采用導(dǎo)電性能好的襯底制備半導(dǎo)體硒膜,使制備得到的半導(dǎo)體薄膜在應(yīng)用方面有著廣泛的前景。
作為本發(fā)明半導(dǎo)體硒膜制備方法的另一種優(yōu)選,步驟(2)中,反應(yīng)溫度為20-90℃;反應(yīng)時(shí)間為5-60分鐘;該反應(yīng)條件能使制備的半導(dǎo)體薄膜厚度均勻。
有益效果:本發(fā)明提供的半導(dǎo)體硒膜的制備方法工藝簡(jiǎn)單、成本低、適合工業(yè)化生產(chǎn)。該制備方法能夠通過控制極化電位、溫度、溶液中化學(xué)原料配比、電流密度等參數(shù)達(dá)到控制硒膜的厚度、形貌、組分、結(jié)晶度的效果,該方法制備以多種材料半導(dǎo)體硒膜為襯底,制備得到的半導(dǎo)體硒膜使用方便。
附圖說明
圖1為實(shí)施例1的硒膜SEM照片。
圖2為實(shí)施例2的硒膜SEM照片。
圖3為實(shí)施例3的硒膜SEM照片。
圖4為實(shí)施例4的硒膜SEM照片。
圖5為實(shí)施例5的硒膜SEM照片。
圖6為實(shí)施例6的硒膜SEM照片。
圖7為實(shí)施例7的硒膜SEM照片。
圖8為實(shí)施例8的硒膜SEM照片。
具體實(shí)施方式
根據(jù)下述實(shí)施例,可以更好地理解本發(fā)明。然而,本領(lǐng)域的技術(shù)人員容易理解,實(shí)施例所描述的具體的物料配比、工藝條件及其結(jié)果僅用于說明本發(fā)明,而不應(yīng)當(dāng)也不會(huì)限制權(quán)利要求書中所詳細(xì)描述的本發(fā)明。
實(shí)施例1
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