[發明專利]PET發紋膜的制備成型工藝

無效

• 申請號: 201210204191.4
• 申請日: 2012-06-20
• 公開（公告）號: CN102717512A
• 公開（公告）日: 2012-10-10
• 發明（設計）人: 王欣南
• 申請（專利權）人: 蘇州新穎新材料科技股份有限公司
• 主分類號: B29C59/04
• 分類號: B29C59/04;B29C37/00;B29L7/00
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 范晴

技術領域

本發明涉及一種PET發紋膜的制備成型工藝。

背景技術

傳統生產工藝是：利用機械方式在PET膜表面摩擦刻絲，從而形成PET拉絲膜。然而，這種傳統生產方式，PET拉絲膜上紋理的形狀難以控制，而且在PET膜表面摩擦刻絲時，會出現PET表面的膜屑難以清理干凈的問題，影響產品的質量。

發明內容

本發明目的是：針對上述問題，提供一種PET發紋膜的制備成型工藝，本發明可解決傳統生產方式在PET膜表面摩擦刻絲時產生的碎屑難以清理干凈的問題。本工藝制得的PET發紋膜具有凹凸有致的立體效果，可作為高仿真不銹鋼膜在家電制造領域使用。

本發明的技術方案是：一種PET發紋膜的制備成型工藝，其特征在于，該工藝包括以下步驟：

步驟一、在PET膜的正面涂布一層無溶劑UV膠；

步驟二、將涂布無溶劑UV膠后的PET膜經過發紋模具輥和膠輥的作用力點，使所述發紋模具輥對PET膜正面的無溶劑UV膠層進行擠壓，擠壓的同時對無溶劑UV膠層進行UV固化處理，發紋模具輥上制有凹凸有致的紋理，從而將發紋模具輥上的紋理壓在無溶劑UV膠層上，待無溶劑UV膠層達到脫模硬度要求時進行脫模，脫模后繼續對無溶劑UV膠層進行UV固化處理，最終形成PET發紋膜。

作為優選，所述步驟一中，所述PET膜的厚度為20~100um，寬度為800~1500mm，表面張力在54dyn以上。

作為優選，所述步驟一中，所述無溶劑UV膠的粘度為500~1500mPa.s。

作為優選，所述步驟一中，在PET膜的正面涂布的這一層無溶劑UV膠的膠層厚度為3~20um。

作為優選，所述步驟二中，所述發紋模具輥為金屬材質，其內設置有水循環冷卻系統。

作為優選，所述步驟二中，所述發紋模具輥與膠輥的作用力點的壓力為9.8~39.2N。

本發明的優點是：本發明采用了與傳統技術完全不同的生產工藝，將傳統生產工藝中的在PET基膜上摩擦刻絲的方式改為：先在PET基膜上涂布無溶劑UV膠層，再利用發紋模具輥對無溶劑UV膠層進行擠壓，從而將發紋模具輥上的紋理壓在無溶劑UV膠層上（在無溶劑UV膠層上形成凹凸有致的紋理），最終形成PET發紋膜，該PET發紋膜具有凹凸有致的立體效果，可作為高仿真不銹鋼膜在家電制造領域使用。而且，本發明可通過制作不同花紋（紋理）的發紋模具輥，制得不同花型及紋理的產品，工藝操作方便，成型花紋一致性控制容易、精度高，克服了以往機械摩擦刻絲工藝中紋理控制難、碎屑清理難及花紋單一的缺點。

附圖說明

下面結合附圖及實施例對本發明作進一步描述：

圖1為本發明的工藝流程圖。

具體實施方式

參照圖1所示，本實施例的PET發紋膜的制備成型工藝，包括以下步驟：

步驟一、在厚20~100um、寬800~1500mm的PET膜（PET原膜）正面涂布一層厚3~20um的無溶劑UV膠（即無溶劑型紫外光固化膠，其粘度最好在500~1500mPa.s之間），從而在PET膜正面形成無溶劑UV膠層。所述PET膜的表面張力最好在54dyn以上。

步驟二、將涂布無溶劑UV膠后的PET膜經過發紋模具輥和膠輥的作用力點，使所述發紋模具輥對PET膜正面的無溶劑UV膠層進行擠壓，擠壓的同時對無溶劑UV膠層進行UV固化處理。發紋模具輥上制有凹凸有致的紋理，從而將發紋模具輥上的紋理壓在無溶劑UV膠層上（在無溶劑UV膠層上形成細致的發絲紋理），待無溶劑UV膠層達到脫模硬度要求時進行脫模（即：將PET膜從發紋模具輥上分離下來），脫模后繼續對無溶劑UV膠層進行UV固化處理，使無溶劑UV膠層達到產品要求的硬度，最終得到PET發紋膜，得到的PET發紋膜上的發絲紋理與真正不銹鋼拉絲板的發絲紋理非常接近。

所述發紋模具輥為金屬材質，其內設置有水循環冷卻系統，水溫控制在25℃以下。發紋模具輥與膠輥的作用力點的壓力為9.8~39.2N。

申請人采用上述工藝方法，分別利用厚度為30um、31um和32um的PET原膜制備出了三張PET發紋膜，這三張PET發紋膜的性能檢測結果見下表：

上表中，對于產品“耐熱性”的檢測方法為：將試片放入150℃高溫箱內，放置1小時，試驗完后與試驗前試片比較色差，受熱前后ΔE≤1.0。

當然，上述實施例只為說明本發明的技術構思及特點，其目的在于讓人們能夠了解本發明的內容并據以實施，并不能以此限制本發明的保護范圍。凡根據本發明主要技術方案的精神實質所做的等效變換或修飾，都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。