[發(fā)明專利]X射線顯微成像系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210201782.6
• 申請日: 2012-06-18
• 公開（公告）號: CN102735700A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設計）人: 須穎;董友
• 申請（專利權(quán)）人: 東營市三英精密工程研究中心
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04
• 代理公司: 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 賈玉姣

1.一種X射線顯微成像系統(tǒng)，其特征在于，包括:

用于發(fā)射X射線的射線源，所述射線源可沿縱向移動；

用于承載待測樣品的樣品臺；

探測器，所述探測器和所述射線源在縱向上位于所述樣品臺的兩側(cè)，所述探測器包括橫向相鄰的大視場探測器和高分辨率探測器，所述探測器被構(gòu)造成可分別沿橫向和縱向移動以使所述射線源發(fā)射出的X射線穿透所述待測樣品后投射至所述大視場探測器和高分辨率探測器中的其中一個上；

控制器，所述控制器用于控制所述射線源和所述探測器的移動；和

計算機，所述計算機分別與所述控制器和所述探測器相連以分別向所述控制器發(fā)出控制指令及對待測樣品進行圖像數(shù)據(jù)采集。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線顯微成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括：射線源變焦平臺，所述射線源設在所述射線源變焦平臺上，所述射線源變焦平臺與所述控制器相連以被控制沿縱向移動。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線顯微成像系統(tǒng)，其特征在于，所述射線源變焦平臺包括：

第一底座，所述第一底座上形成有兩個第一導軌槽，所述兩個第一導軌槽沿橫向彼此間隔開；

第一移動平臺，所述第一移動平臺的底部設有兩個沿橫向彼此間隔開的第一導軌，所述兩個第一導軌分別一一對應地配合在所述兩個第一導軌槽內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線顯微成像系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

探測器變焦平臺，所述探測器變焦平臺與所述控制器相連以被控制沿縱向移動；

探測器切換平臺，所述探測器切換平臺設在所述探測器變焦平臺上，所述探測器切換平臺與所述控制器相連以可被控制沿橫向移動，其中所述大視場探測器和所述高分辨率探測器沿橫向并排設在所述探測器切換平臺上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線顯微成像系統(tǒng)，其特征在于，所述探測器變焦平臺包括：

第二底座，所述第二底座上形成有兩個第二導軌槽，所述兩個第二導軌槽沿橫向彼此間隔開；

第二移動平臺，所述第二移動平臺的底部設有兩個沿橫向彼此間隔開的第二導軌，所述兩個第二導軌分別一一對應地配合在所述兩個第二導軌槽內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線顯微成像系統(tǒng)，其特征在于，所述探測器切換平臺包括：

兩個第三導軌，所述兩個第三導軌設在所述第二移動平臺的上表面上且沿縱向彼此間隔開；

第三移動平臺，所述第三移動平臺的底部設有兩個第三導軌槽，其中所述兩個第三導軌分別一一對應地配合在所述兩個第三導軌槽內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線顯微成像系統(tǒng)，其特征在于，所述樣品臺包括轉(zhuǎn)臺和三維定位部，所述三維定位部設在所述轉(zhuǎn)臺上且所述待測樣品放置在所述三維定位部上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的X射線顯微成像系統(tǒng)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)臺的水平截面為圓形、橢圓形或變數(shù)大于三的多邊形。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線顯微成像系統(tǒng)，其特征在于，所述控制器與所述樣品臺相連以控制所述樣品臺沿所述縱向移動。