[發明專利]PCB干膜顯影槽清洗劑及其制備方法

無效

• 申請號: 201210201233.9
• 申請日: 2012-06-19
• 公開（公告）號: CN102757871A
• 公開（公告）日: 2012-10-31
• 發明（設計）人: 鐘強;許國祥;劉興才;王萌
• 申請（專利權）人: 瀚宇博德科技（江陰）有限公司
• 主分類號: C11D10/02
• 分類號: C11D10/02;G03F7/30
• 代理公司: 江陰市同盛專利事務所 32210
• 代理人: 唐紉蘭;沈國安

1.一種PCB干膜顯影槽清洗劑，其特征在于：所述清洗劑由以下重量百分比的溶劑A和溶劑B組成，其中，溶劑A的組成為：

磷酸：15~20%，

乙酸：4~10%，

余量為水；

溶劑B的組成，以溶劑A為基礎量：

乳化劑：3~6%，

增溶劑：0.5~1%,

表面活性劑：1~3%。

2.如權利要求1所述一種PCB干膜顯影槽清洗劑，其特征在于：所述乳化劑為OP系列乳化劑中的至少一種，所述增溶劑為乙二醇單丁醚或乙二醇乙醚中的至少一種，所述表面活性劑為水溶性聚醚。

3.如權利要求1或2所述一種PCB干膜顯影槽清洗劑的制備方法，其特征在于：所述方法包含有以下步驟：

步驟一、制備溶劑A，將按上述百分比稱量好的磷酸和乙酸依次倒入水中，并攪拌混合均勻；

步驟二、制備溶劑B，按制備好的溶劑A的重量，以及上述百分比稱量好乳化劑和增溶劑，并將乳化劑,增溶劑和表面活性劑混合攪拌；

步驟三、將步驟一和步驟二得到的溶劑A和溶劑B相混合，混合后在常溫下攪拌均勻，使其全部溶解，得到外觀為無色均勻透明或略帶淺黃色的溶液，即完成清洗劑的制備。

4.如權利要求1或2所述一種PCB干膜顯影槽清洗劑的清洗方法，其特征在于：所述清洗方法的步驟為：

步驟一、稀釋：將清洗劑與水混合,清洗劑按重量計，其百分比為10~20%；

步驟二、清洗：清洗時，各項參數為：

清洗溫度25~30℃,

清洗時間1.5~2h；

步驟三、水洗：用純水清洗0.5~1H即可。