[發(fā)明專利]基片上料機(jī)械手、基片上料系統(tǒng)和PECVD設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210200997.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103510065A | 公開(公告)日: | 2014-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張文 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/44 | 分類號(hào): | C23C16/44;B25J11/00;B25J19/02;B65G47/91 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黃德海 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基片上料 機(jī)械手 系統(tǒng) pecvd 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件技術(shù)領(lǐng)域,特別地涉及一種基片上料機(jī)械手、具有所述基片上料機(jī)械手的基片上料系統(tǒng)和PECVD設(shè)備。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的太陽(yáng)能平板式PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)設(shè)備工作過程中,取片機(jī)械手從上料臺(tái)的料盒中不斷取出電池片。當(dāng)取片機(jī)械手伸入到料盒中時(shí),如果裝載系統(tǒng)出現(xiàn)故障而停止工作,此時(shí)操作人員在不熟悉整個(gè)設(shè)備的情況下極有可能直接對(duì)上料臺(tái)進(jìn)行升降,從而導(dǎo)致取片機(jī)械手被料盒壓迫,進(jìn)而導(dǎo)致取片機(jī)械手前端的吸附件損壞,甚至?xí)沟萌∑瑱C(jī)械手的手臂彎曲并導(dǎo)致支架變形。因此造成了對(duì)取片機(jī)械手的損壞,增加了維修和替換成本,而且耽誤了工作進(jìn)度。
此外,在現(xiàn)有的PECVD設(shè)備中,通常控制上料臺(tái)的控制裝置設(shè)置成在上料臺(tái)發(fā)生故障時(shí)對(duì)該上料臺(tái)進(jìn)行鎖定,即現(xiàn)有的PECVD只能實(shí)現(xiàn)對(duì)上料臺(tái)的單鎖設(shè)計(jì)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。
為此,本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種基片上料機(jī)械手,所述基片上料機(jī)械手避免了損壞,降低了維修和替換成本且不耽誤工作進(jìn)度。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提出一種具有上述基片上料機(jī)械手的基片上料系統(tǒng)。
本發(fā)明的再一個(gè)目的在于提出一種具有上述基片上料系統(tǒng)的PECVD設(shè)備。
根據(jù)本發(fā)明第一方面實(shí)施例的基片上料機(jī)械手,包括:包括:支架;手臂,所述手臂可上下旋轉(zhuǎn)地連接在所述支架上;基片吸附件,所述基片吸附件設(shè)在所述手臂的一端上用于吸附基片;和旋轉(zhuǎn)檢測(cè)裝置,所述旋轉(zhuǎn)檢測(cè)裝置用于檢測(cè)所述手臂的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的基片上料機(jī)械手,通過將手臂可旋轉(zhuǎn)地連接在支架上,使得當(dāng)基片上料機(jī)械手運(yùn)動(dòng)受制時(shí)可實(shí)現(xiàn)與上料臺(tái)的互鎖設(shè)計(jì),及時(shí)避免了對(duì)手臂或基片吸附件的損壞,降低了維修和替換成本,并且不耽誤工作進(jìn)度,提高了工作效率。
另外,根據(jù)本發(fā)明的基片上料機(jī)械手還具有如下附加技術(shù)特征:
可選地,所述旋轉(zhuǎn)檢測(cè)裝置包括:用于測(cè)量所述手臂旋轉(zhuǎn)角度的傳感器。
可選地,所述手臂通過樞轉(zhuǎn)軸連接在所述支架上。
可選地,所述傳感器設(shè)在所述樞轉(zhuǎn)軸處。
可選地,所述基片吸附件為吸盤。
可選地,所述旋轉(zhuǎn)檢測(cè)裝置包括:彈性件,所述彈性件固定連接至所述手臂的另一端。
根據(jù)本發(fā)明第二方面實(shí)施例的基片上料系統(tǒng),包括:料盒,所述料盒內(nèi)具有用于放置基片的腔室;可升降的上料臺(tái);傳送帶,所述傳送帶將所述料盒傳送到所述上料臺(tái)上;根據(jù)本發(fā)明第一方面實(shí)施例所述的基片上料機(jī)械手,其中所述基片上料機(jī)械手伸入所述腔室中進(jìn)行取片;和第一控制單元,所述第一控制單元用于控制所述基片上料機(jī)械手的運(yùn)動(dòng);以及第二控制單元,所述第二控制單元用于控制所述上料臺(tái)的升降。
所述基片上料系統(tǒng)還包括升降驅(qū)動(dòng)裝置,所述升降驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)在所述上料臺(tái)底部且與所述第二控制單元電連接以驅(qū)動(dòng)所述上料臺(tái)的升降。
可選地,所述第二控制單元在所述旋轉(zhuǎn)檢測(cè)裝置檢測(cè)到所述手臂旋轉(zhuǎn)時(shí)停止所述上料臺(tái)的升降。
可選地,所述升降驅(qū)動(dòng)裝置為絲杠。由此,通過采用絲杠,從而整個(gè)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于安裝且成本低。
所述基片上料系統(tǒng)還包括托盤和上下夾持氣缸,所述上下夾持氣缸設(shè)在所述上料臺(tái)上用于定位所述料盒。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的基片上料系統(tǒng),結(jié)構(gòu)合理且性能安全,從而極大地提高了工作效率。
根據(jù)本發(fā)明第三方面實(shí)施例的一種PECVD設(shè)備,包括根據(jù)本發(fā)明第二方面實(shí)施例所述的基片上料系統(tǒng)。
本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。
附圖說明
本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解,其中:
圖1(a)是根據(jù)本發(fā)明第一方面實(shí)施例的基片上料機(jī)械手的示意圖;
圖1(b)是根據(jù)本發(fā)明第一方面實(shí)施例的另一基片上料機(jī)械手的示意圖;
圖2是根據(jù)本發(fā)明第二方面實(shí)施例的基片上料系統(tǒng)的示意圖;
圖3是圖2中所示的基片上料系統(tǒng)的基片上料機(jī)械手運(yùn)動(dòng)受制時(shí)上料臺(tái)上升狀態(tài)的示意圖;
圖4是圖2中所示的基片上料系統(tǒng)的基片上料機(jī)械手運(yùn)動(dòng)受制時(shí)上料臺(tái)下降狀態(tài)的示意圖;和
圖5是基片上料機(jī)械手位于準(zhǔn)備位置時(shí)的示意圖。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司,未經(jīng)北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的
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