[發(fā)明專利]有效擊打穴位的足浴器無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210198179.7 | 申請日: | 2012-06-15 |
| 公開(公告)號: | CN102727116A | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 翟萍;劉冰;杜詩軍;張魏華;郎博 | 申請(專利權)人: | 鄭州大學 |
| 主分類號: | A47K3/022 | 分類號: | A47K3/022;A61H39/04;A61H33/00;A61H23/02 |
| 代理公司: | 鄭州大通專利商標代理有限公司 41111 | 代理人: | 陳大通 |
| 地址: | 450001 河南省鄭*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有效 擊打 穴位 足浴器 | ||
1.一種有效擊打穴位的足浴器,包含有足浴池和底座,其特征是:所述足浴池底左、右兩側設有兩片擊打穴位區(qū),所述擊打穴位區(qū)密布有與足浴底池滑動連接的活動觸頭,所述活動觸頭可沿足浴池底上、下運動;在活動觸頭下的底座中設有直線回轉機構,所述直線回轉結構包含有兩個平行安裝的傳動機構、傳動結構電路控制系統(tǒng),在兩個傳動機構之間的傳動帶或鏈條上設有一個直線形或折線形突塊;在傳動機構上方左右兩側設有兩根平行導軌,導軌上滑動連接一個母塊,母塊兩側伸出有兩根擺桿,擺桿上端面的最高點高于活動觸頭的最低點,在母塊上開有一個凹槽,突塊連接于母塊的凹槽內,傳動機構的運動,帶動母塊上的擺桿水平往復運動,擺桿的水平往復運動帶動擊打穴位區(qū)的活動觸頭上、下運動進而有效擊打人體足底穴位。
2.根據(jù)權利要去1所述的有效擊打穴位的足浴器,其特征是:所述活動觸頭上、下兩端分別設有兩個擋塊凸起,下?lián)鯄K凸起與足浴池底之間設有復位彈簧,活動觸頭與足浴池底之間設有密封墊圈。
3.根據(jù)權利要去1所述的有效擊打穴位的足浴器,其特征是:所述傳動機構包含有一個動力電機和一個被動傳動輪,動力電機和被動傳動輪下設有支座,動力電機的輸出軸與被動傳動輪之間為帶傳動、或鏈傳動。
4.根據(jù)權利要去1所述的有效擊打穴位的足浴器,其特征是:所述傳動機構包含有兩個動力電機,兩個動力電機下均設有支座,兩個動力電機的輸出軸之間為帶傳動或鏈傳動。
5.根據(jù)權利要求1所述的有效擊打穴位的足浴器,其特征是:在母塊左、右兩側分別設有兩個導軌孔,導軌在導軌孔內與母塊滑動連接。
6.根據(jù)權利要求1所述的有效擊打穴位的足浴器,其特征是:所述母塊下端面上分別設有兩個滑軌槽,導軌通過滑軌槽與母塊滑動連接。
7.根據(jù)權利要求1所述的有效擊打穴位的足浴器,其特征是:所述母塊下端面上設有兩個滑塊,導軌上設有滑槽,導軌和母塊通過滑塊與滑槽配合實現(xiàn)滑動連接。
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