[發(fā)明專利]等離子切割機的濕式可升降除塵工作臺無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210197952.8 | 申請日： | 2012-06-15 |
| 公開（公告）號： | CN102699502A | 公開（公告）日： | 2012-10-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 周顯濤;呂游;李巖;閆石磊 | 申請（專利權）人： | 萊蕪鋼鐵集團有限公司 |
| 主分類號： | B23K10/00 | 分類號： | B23K10/00 |
| 代理公司： | 泰安市泰昌專利事務所 37207 | 代理人： | 高軍寶 |
| 地址： | 271104 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子 切割機 濕式可 升降 除塵 工作臺 | ||
【權利要求書】：
1.一種等離子切割機的濕式可升降除塵工作臺，包括上端開口的可盛納水的箱體，其特征在于，所述箱體內可沿箱體上下方向伸縮的伸縮裝置，伸縮裝置上設有切割面。
2.根據權利要求1所述的等離子切割機的濕式可升降除塵工作臺，其特征在于：所述的伸縮裝置為充氣氣囊。
3.根據權利要求1所述的等離子切割機的濕式可升降除塵工作臺，其特征在于：所述箱體側壁上設有進、出水口。
4.根據權利要求1或2所述的等離子切割機的濕式可升降除塵工作臺，其特征在于：所述切割面下方、伸縮裝置上方設有集屑盒。
5.根據權利要求4所述的等離子切割機的濕式可升降除塵工作臺，其特征在于：集屑盒上開設有小孔。
6.根據權利要求2所述的等離子切割機的濕式可升降除塵工作臺，其特征在于：所述氣囊上方設有氣罩，切割面位于氣罩上端面上。
7.根據權利要求6所述的等離子切割機的濕式可升降除塵工作臺，其特征在于：設有用于支撐氣罩的位于氣罩下方的支撐框架，支撐框架為上下沒底的盒狀結構，氣囊位于其中，支撐框架通過調節(jié)螺栓固定在箱體壁內。
8.根據權利要求6所述的等離子切割機的濕式可升降除塵工作臺，其特征在于：支撐框架的四周與盒式箱體之間裝有調節(jié)螺栓。
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