[發明專利]一種離子注入的阻擋層制作方法

有效

• 申請號: 201210196951.1
• 申請日: 2012-06-14
• 公開（公告）號: CN103488045A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 胡華勇
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F7/09
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 牛崢;王麗琴

1.一種離子注入阻擋層的制作其特征在于，該方法包括：在光刻膠上方加入光學敏感型頂部抗反射層，在曝光和顯影形成光刻圖案的步驟中，增加光刻膠曝光區域與光學敏感型頂部抗反射層接觸部分的溶解度，在其側壁頂端呈圓弧狀的阻擋層。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述光刻膠是化學放大光刻膠，所述化學放大光刻膠是曝光波長248納米的氟化氪光刻膠或者曝光波長193納米的氟化氬光刻膠。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述光學敏感型頂部抗反射涂層的組成包括光酸產生劑和抗反射材料。

4.根據權利要求3的所述的方法，其特征在于，所述抗反射材料的重量占所述抗反射材料和光酸產生劑總重量的百分比范圍是80-99.9%，所述光酸產生劑的重量占所述抗反射材料和光酸產生劑總重量的百分比范圍是0.1-20%。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述抗反射材料的組成為全氟烷烴酸類化合物，聚氟化烷基醚類化合物和聚四氟乙烯基類化合物的任意一種或兩種及以上組成的混合物。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述光酸產生劑由鎓鹽，有機鹵素化合物，砜化合物和磺酸鹽化合物，所述鎓鹽的氟化物，所述有機鹵素化合物的氟化物，所述砜化合物的氟化物和所述磺酸鹽化合物的氟化物中的任意一種或兩種及以上組成的混合物。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述光酸產生劑是二芳基碘鎓鹽類，三芳基硫鎓鹽類，硝基芐基酯類，磺酸酯類化合物，吩噻噁類化合物，硫雜蒽酮類化合物的任意一種或兩種及以上組成的混合物。

8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于，所述光酸產生劑是以氟化的烷基磺酸根離子作為陰離子的鎓鹽。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述光學敏感型頂部抗反射涂層可進一步包括，含有作為猝滅劑的含氮有機化合物，所述含氮有機化合物包括：二甲氨基吡啶，叔胺，1,8-雙二甲氨基萘，黃連素，胺的聚合物，四烴基氫氧化銨和十六烷基三甲基氫氧化銨中任意一種基團或兩種及以上的組合基團。

10.根據權利要求9的所述的方法，其特征在于，所述作為猝滅劑的含氮有機化合物的重量占所述光學敏感型頂部抗反射涂層重量的百分比范圍是0.001-1%。