[發(fā)明專利]近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210195846.6 | 申請日: | 2012-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN102706846A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李敏;王懋;吳東岷;翟曉敏 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215123 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紅外 激光 掃描 聚焦 成像 系統(tǒng) | ||
1.一種近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),包括采用共聚焦結(jié)構(gòu)的掃描光路單元和控制單元,其特征在于,所述掃描光路單元包括近紅外激光光源、準(zhǔn)直擴(kuò)束模塊、激光濾光片、二向色反射鏡、掃描振鏡、f-theta透鏡、第一鏡筒透鏡、第一成像物鏡、熒光濾光片、第二會聚透鏡、第二針孔和探測器;
激光光源發(fā)出的近紅外光經(jīng)準(zhǔn)直擴(kuò)束模塊形成設(shè)定光斑大小的平行光透射至激光濾光片,再依次經(jīng)二向色反射鏡、掃描振鏡入射到f-theta透鏡上,并會聚到第一像面位置,而后經(jīng)第一鏡筒透鏡準(zhǔn)直形成平行光入射到成像物鏡上,并聚焦在放置于樣品臺上的樣品上,所述第一像面位置與第一鏡筒透鏡的焦點(diǎn)位置以及樣品經(jīng)成像物鏡和第一鏡筒透鏡的第一次成像位置重合,樣品被激發(fā)后發(fā)出的長波熒光經(jīng)過成像物鏡變成平行光,再經(jīng)第一鏡筒透鏡會聚于第一成像面位置,然后經(jīng)過f-theta透鏡變成平行光入射到掃描振鏡上,并經(jīng)掃描振鏡反射至二向色反射鏡,其后依次透過熒光濾光片和第二會聚物鏡聚焦于第二針孔上,所述第二針孔大小為第二會聚透鏡的艾里斑大小,探測器緊靠第二針孔放置;
所述控制單元包括用于控制掃描振鏡的運(yùn)動控制模塊,用于采集探測器輸出信號的數(shù)據(jù)采集模塊以及與運(yùn)動控制模塊和數(shù)據(jù)采集模塊連接的數(shù)據(jù)處理模塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,它還包括柯勒照明單元,所述柯勒照明單元包括白光光源、一個(gè)以上透鏡、第二鏡筒透鏡和光電傳感模塊,白光光源發(fā)出的光經(jīng)該一個(gè)以上透鏡照射在樣品上形成均勻照明,而經(jīng)樣品反射的光依次經(jīng)過成像物鏡和第二鏡筒透鏡,并最終成像于光電成像模塊上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,所述柯勒照明單元采用反射式柯勒照明系統(tǒng),包括白光光源、成像透鏡、半反半透反射鏡、反射鏡、第二鏡筒透鏡和光電傳感模塊,白光光源經(jīng)成像透鏡成像,再依次通過半反半透反射鏡和反射鏡的反射,將白光光源的像反射到成像物鏡的后焦點(diǎn)位置,并在樣品上形成均勻照明,樣品反射的光依次經(jīng)成像物鏡、反射鏡、半反半透反射鏡和第二鏡筒透鏡,最后成像于光電成像模塊上;
所述第一、第二鏡筒透鏡到成像物鏡的距離相等,所述光電傳感模塊位于第二鏡筒透鏡的焦點(diǎn)位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,所述柯勒照明單元采用透射式柯勒照明系統(tǒng),所述透射式柯勒照明系統(tǒng)包括白光光源、第一透鏡、第二透鏡、反射鏡和第二鏡筒透鏡,白光光源經(jīng)第一透鏡成像在第二透鏡的焦點(diǎn)位置,白光光源像發(fā)出的光經(jīng)第二透鏡變成平行光,從樣品的下方均勻照明樣品,樣品反射的光經(jīng)成像物鏡成像后,經(jīng)反射鏡反射入第二鏡筒透鏡,并最后成像于光電成像模塊上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2-4中任一項(xiàng)所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,所述光電成像模塊采用CCD。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,所述準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)包括第一會聚透鏡,第一針孔和準(zhǔn)直透鏡,激光光源發(fā)出的近紅外光經(jīng)過第一會聚透鏡會聚到第一針孔上,第一針孔大小為第一會聚物鏡艾里斑的大小,第一針孔發(fā)射的光經(jīng)過準(zhǔn)直透鏡變成平行光入射至激光濾光片。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,所述準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)包括光纖耦合模塊、單模光纖和準(zhǔn)直透鏡,激光光源發(fā)出的光經(jīng)光纖耦合模塊耦合到單模光纖中,單模光纖輸出的光經(jīng)過準(zhǔn)直透鏡變成平行光入射至激光濾光片;所述激光輸出單模光纖耦合效率大于73%。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,所述準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng)還包括一個(gè)以上擴(kuò)束透鏡,由準(zhǔn)直透鏡輸出的平行光經(jīng)過所述擴(kuò)束透鏡入射至激光濾光片。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,所述運(yùn)動控制模塊、數(shù)據(jù)采集模塊和數(shù)據(jù)處理模塊設(shè)于計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,所述樣品內(nèi)標(biāo)記有熒光發(fā)射光譜在932~1250nm之間的近紅外量子點(diǎn)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的近紅外激光掃描共聚焦成像系統(tǒng),其特征在于,所述近紅外量子點(diǎn)的熒光發(fā)射光譜峰值進(jìn)一步優(yōu)選為1200nm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所,未經(jīng)中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210195846.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





