[發明專利]抗腐蝕涂層的制作方法、抗腐蝕涂層、等離子體加工設備

有效

• 申請號: 201210195700.1
• 申請日: 2012-06-14
• 公開（公告）號: CN103484809A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 康明陽
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: C23C4/10
• 分類號: C23C4/10
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張天舒

1.一種抗腐蝕涂層的制作方法，用于在金屬部件的表面上制備抗腐蝕涂層，其特征在于，包括以下步驟：

將氧化釔粉體和氧化鋁粉體按照重量比1∶1的比例球磨混合均勻獲得復合粉體；

將所述復合粉體涂覆在所述金屬部件的表面，從而在所述金屬部件的表面獲得抗腐蝕的復合涂層。

2.根據權利要求1所述的抗腐蝕涂層的制作方法，其特征在于，在所述氧化釔粉體中，氧化釔的純度為99.9％以上。

3.根據權利要求1所述的抗腐蝕涂層的制作方法，其特征在于，在所述氧化鋁粉體中，氧化鋁的純度為99.9％以上。

4.根據權利要求1所述的抗腐蝕涂層的制作方法，其特征在于，所述復合粉體的粒度范圍在20～40μm。

5.根據權利要求1所述的抗腐蝕涂層的制作方法，其特征在于，所述抗腐蝕的復合涂層的厚度范圍在150～200μm。

6.根據權利要求1所述的抗腐蝕涂層的制作方法，其特征在于，將所述復合粉體涂覆在所述金屬部件的表面的步驟包括：

A、對所述金屬部件的表面進行清洗和噴砂處理；

B、通過噴涂工藝將所述復合粉體涂覆在所述金屬部件的表面，從而獲得抗腐蝕的復合涂層。

7.根據權利要求6所述的抗腐蝕涂層的制作方法，其特征在于，對所述金屬部件的表面進行噴砂處理，使所述金屬部件的表面粗糙度Ra為6～8μm。

8.根據權利要求6所述的抗腐蝕涂層的制作方法，其特征在于，在步驟A和B之間還包括：

采用噴涂工藝在所述金屬部件的表面涂覆氧化鋁粉體，以獲得氧化鋁涂層；

所述氧化鋁粉體的粒度范圍在20～40μm，并且在所述氧化鋁粉體中，氧化鋁的純度為99.9％以上；所述氧化鋁涂層的厚度范圍在150～200μm。

9.根據權利要求6所述的抗腐蝕涂層的制作方法，其特征在于，在步驟B之后還包括：

采用噴涂工藝在所述復合涂層的表面涂覆氧化釔粉體，以獲得氧化釔涂層；

所述氧化釔粉體的粒度范圍在20～40μm，并且在所述氧化釔粉體中，所述氧化釔的純度為99.9％以上；所述氧化釔涂層的厚度范圍在150～200μm。

10.一種抗腐蝕涂層，用于提高金屬部件的抗等離子體腐蝕性能，其特征在于，所述抗腐蝕涂層包括復合涂層，所述復合涂層包含有氧化釔和氧化鋁，而且氧化釔和氧化鋁的重量比為1∶1。

11.根據權利要求10所述的抗腐蝕涂層，其特征在于，包括在所述金屬部件的厚度方向依次設置的氧化鋁涂層、復合涂層和氧化釔涂層；或者，包括在所述金屬部件的厚度方向依次設置的復合涂層和氧化釔涂層；或者，包括在所述金屬部件的厚度方向依次設置的氧化鋁涂層和復合涂層。

12.根據權利要求10所述的抗腐蝕涂層，其特征在于，所述復合涂層的厚度范圍為150～200μm。

13.一種等離子體加工設備，包括反應腔室，在所述反應腔室內與等離子體接觸的金屬部件的表面設有抗腐蝕涂層，其特征在于，所述抗腐蝕涂層為權利要求10-12任意一項所述的抗腐蝕涂層。