[發(fā)明專利]微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu)無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210195658.3 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102701143A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳奎;藍(lán)鼎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 吳奎;藍(lán)鼎 |
| 主分類號(hào): | B81C1/00 | 分類號(hào): | B81C1/00;B81B7/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 430056 湖北省武漢經(jīng)濟(jì)技*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 透鏡 輔助 聚光 光刻 工藝 制備 有序 結(jié)構(gòu) | ||
1.微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu),包括以下步驟:
步驟1)在一基底10上涂一層光刻膠11;
步驟2)在光刻膠11上,放置一個(gè)微納米透鏡片12;
步驟3)用光照13曝光;
步驟4)顯影之后在光刻膠11表面形成納米網(wǎng)孔;
步驟5)通過濕法或者干法將圖形轉(zhuǎn)移到基底10。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu),其特征在于,步驟1中的基底10可以為石英、玻璃、藍(lán)寶石,硅、鍺等一元半導(dǎo)體,碳化硅、砷化鎵、氮化鎵、碳化硅、磷化銦等III/V族,II/VI族二元、三元或四元半導(dǎo)體材料;氧化鋅、氧化鈦等氧化物半導(dǎo)體材料;可以是單層也可以是多層材料;還可以是OLED、LED、LD、太陽能電池、燃料電池雙極板等半導(dǎo)體光電器件的整體或一部分;帶有石墨烯、碳納米管、ITO、GZO、AZO等作為導(dǎo)電膜材料的器件表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu),其特征在于,步驟2中光刻膠11是對(duì)200nm-800nm感光的正膠或者負(fù)膠。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu),其特征在于,步驟2中微納米透鏡片12的制備工藝,現(xiàn)列舉以下兩種方法:
方法一:取一襯底50,在上面覆蓋一單層微納米球51,通過高溫退火形成半球或者凸面球,且和基地結(jié)合的牢固,構(gòu)成一個(gè)整體移動(dòng)透鏡片;
方法二:取一襯底50,在上面覆蓋一單層微納米球51,在間隙處填充膠60,構(gòu)成一個(gè)整體微納米透鏡片。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu),其特征在于,可移動(dòng)微納米透鏡片制備舉例方法一中襯底50,其材料是雙拋光藍(lán)寶石、石英片、硅片、玻璃片、塑料、樹脂、硅膠等有機(jī)、無機(jī)材料,只要對(duì)所曝光波段基本完全透明的介質(zhì)材料即可;單層微納米球51,可以是聚苯乙烯球、二氧化硅球、PDMS球、氧化鋁球、氯化銫球等能通過自組裝技術(shù)排列的單層透明球,直徑為0.1-1um。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu),其特征在于,可移動(dòng)微納米透鏡片12制備舉例方法二中,填充膠60是PDMS,PDMA,氧化硅凝膠,氧化鈦凝膠,常見光刻膠等其它有機(jī)和無機(jī)膠體,要求必須和單層微納米球51的折射率相近或相等,這樣填充之后,相當(dāng)于單層微納米球變成了單層微納米半球,構(gòu)成微納米透鏡片。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu),其特征在于,微納米透鏡片12是可以反復(fù)利用的,便于工業(yè)化標(biāo)準(zhǔn)化、無差異生產(chǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu),其特征在于,步驟4中,如果光刻膠11為正膠,光刻之后則形成的是光刻膠微納米網(wǎng)孔;如果是負(fù)膠,則光刻之后形成的是微納米柱陣列。當(dāng)然也可以移動(dòng)微納米透鏡片12形成更多圖樣,或者將光照13的入射方向傾斜一定角度曝光也能形成更多圖樣。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納米透鏡片輔助聚光光刻工藝制備有序微納米結(jié)構(gòu),其特征在于,步驟5中的圖形轉(zhuǎn)移過程,可以是干法或濕法刻蝕技術(shù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于吳奎;藍(lán)鼎,未經(jīng)吳奎;藍(lán)鼎許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210195658.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:用于安裝電能表上銘牌的透明蓋板
- 下一篇:一種瓶蓋





