[發(fā)明專利]確定覆蓋誤差的方法和動(dòng)態(tài)控制中間掩模位置的控制系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210195645.6
• 申請(qǐng)日: 2012-06-13
• 公開（公告）號(hào): CN103246152A
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李永堯;王盈盈;蔡飛國(guó);劉恒信
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/00
• 分類號(hào): G03F1/00;G03F1/44;G03F1/76
• 代理公司: 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409
• 代理人: 章社杲;孫征

1.一種減少覆蓋誤差的方法，包括：

將部件的圖案從中間掩模轉(zhuǎn)印至晶圓；

在第一組數(shù)據(jù)點(diǎn)處測(cè)量所述中間掩模上的圖案和所述晶圓上的圖案之間的位置差；

基于所述第一組數(shù)據(jù)點(diǎn)確定第二組數(shù)據(jù)點(diǎn)，所述第二組數(shù)據(jù)點(diǎn)為所述第一組數(shù)據(jù)點(diǎn)的子集，其中，所述第二組數(shù)據(jù)點(diǎn)的位置表示所述第一組數(shù)據(jù)點(diǎn)中的至少一個(gè)的位置，并且所述第一組數(shù)據(jù)點(diǎn)的數(shù)量大于所述第二組數(shù)據(jù)點(diǎn)的數(shù)量；以及

基于所述第二組數(shù)據(jù)點(diǎn)改變所述中間掩模的位置以使所述位置差最小。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：確定至少一個(gè)固定數(shù)據(jù)點(diǎn)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，確定所述第二組數(shù)據(jù)點(diǎn)包括：從所述第一組數(shù)據(jù)點(diǎn)中選擇數(shù)據(jù)點(diǎn)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，確定所述第二組數(shù)據(jù)點(diǎn)包括：

確定至少一個(gè)區(qū)域數(shù)據(jù)點(diǎn)；

確定至少一個(gè)可變數(shù)據(jù)點(diǎn)，其中

所述至少一個(gè)區(qū)域數(shù)據(jù)點(diǎn)的數(shù)量和所述至少一個(gè)可變數(shù)據(jù)點(diǎn)的數(shù)量的總和等于所述第二組數(shù)據(jù)點(diǎn)的數(shù)量。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，確定多個(gè)固定數(shù)據(jù)點(diǎn)包括接收來自用戶的輸入。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：在部件的圖案中確定多個(gè)區(qū)域邊界；以及

在所述多個(gè)區(qū)域邊界的每一個(gè)內(nèi)定位所述第一組數(shù)據(jù)點(diǎn)中的至少一個(gè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，還包括：在部件的圖案中確定多個(gè)區(qū)域邊界以限定多個(gè)區(qū)域；以及

在所述多個(gè)區(qū)域的每一個(gè)內(nèi)定位所述第一組數(shù)據(jù)點(diǎn)中的至少一個(gè)，其中

確定區(qū)域數(shù)據(jù)點(diǎn)包括對(duì)于所述多個(gè)區(qū)域的每一個(gè)選擇所述多個(gè)區(qū)域的每一個(gè)內(nèi)的第一組數(shù)據(jù)點(diǎn)中的至少一個(gè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，確定至少一個(gè)可變數(shù)據(jù)點(diǎn)包括選擇表征所述位置差的一個(gè)或多個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)。

9.一種中間掩模，包括：

遮光層，具有第一表面和第二表面；

開口圖案，從所述第一表面延伸到所述第二表面；

至少一個(gè)域，其中，每個(gè)域都包括：

至少一個(gè)第一開口，定位在與對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)固定測(cè)量位置相關(guān)的對(duì)應(yīng)域中；

至少一個(gè)第二開口，定位在與對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)區(qū)域測(cè)量位置相關(guān)的對(duì)應(yīng)域中；和

至少一個(gè)第三開口，定位在與對(duì)應(yīng)的至少一個(gè)可變測(cè)量位置相關(guān)的對(duì)應(yīng)域中。

10.一種反饋控制系統(tǒng)，包括：

中間掩模圖案化裝置，被配置成將圖案從中間掩模轉(zhuǎn)印至晶圓；

位置測(cè)量工具，被配置成測(cè)量所述晶圓上的圖案的至少一個(gè)部件的位置，其中，至少一個(gè)位置表征所述中間掩模的一部分相對(duì)于所述晶圓的位置；以及

控制器，被配置成接收來自所述位置測(cè)量工具的位置數(shù)據(jù)并基于所述位置數(shù)據(jù)將至少一個(gè)控制信號(hào)傳輸至所述中間掩模圖案化裝置。