[發明專利]一種磁控濺射陰極移動靶無效
| 申請號： | 201210195444.6 | 申請日： | 2012-06-14 |
| 公開（公告）號： | CN103484826A | 公開（公告）日： | 2014-01-01 |
| 發明（設計）人： | 王振東 | 申請（專利權）人： | 沈陽新瑞真空設備有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 沈陽晨創科技專利代理有限責任公司 21001 | 代理人： | 任玉龍 |
| 地址： | 110000 遼寧*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁控濺射 陰極 移動靶 | ||
【權利要求書】：
1.一種磁控濺射陰極移動靶，其特征在于：所述的磁控濺射陰極移動靶包括，密閉的真空容器（1），濺射靶材（2），加熱器（3），擋板（4），陰極支撐座（5），陰極水冷背板（6），陰極水冷真空密封座（7），磁體（8），陰極體移動真空密封系統（9），工件（10）；
其中：在密閉的真空容器（1）中安裝加熱器（3）和擋板（4），被鍍工件（10）從加熱器（3）和擋板（4）之間經過，在密閉的真空容器（1）中安裝有移動陰極體，移動陰極體包括陰極體移動真空密封系統（9），通過導軌和步進電機的控制，光電開關的限位，在密閉的真空容器（1）外實現陰極體的精確移動；
磁體（8）通過膠水黏在陰極水冷真空密封座（7）上，陰極水冷真空密封座（7）通過螺栓連接固定在密閉的真空容器（1）上；
陰極水冷背板（6）與陰極支撐座（5）組成陰極體的移動部分，濺射靶材（2）通過機械固定方式固定陰極水冷背板（6）上。
2.按照權利要求1所述的磁控濺射陰極移動靶，其特征在于：所述的陰極支撐座（5）安裝在導軌上，通過電機驅動。
3.按照權利要求1所述的磁控濺射陰極移動靶，其特征在于：所述的密閉的真空容器（1）為矩形結構。
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