[發(fā)明專利]成像裝置、驅(qū)動(dòng)方法和電子設(shè)備無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210192932.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102833496A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-12-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山口哲司 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 索尼公司 |
| 主分類號(hào): | H04N5/369 | 分類號(hào): | H04N5/369;H04N5/378;H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 黃小臨 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像 裝置 驅(qū)動(dòng) 方法 電子設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本公開(kāi)通常涉及一種成像裝置、驅(qū)動(dòng)方法和電子設(shè)備。更具體地,本公開(kāi)涉及一種能夠抑制裝置中采用的光電轉(zhuǎn)換膜(photoelectric?conversion?film)惡化的成像裝置、驅(qū)動(dòng)該裝置的驅(qū)動(dòng)方法和利用該裝置的電子設(shè)備。
背景技術(shù)
在諸如典型CCD(電荷耦合器件)或CIS(CMOS圖像傳感器)之類的固態(tài)成像裝置中,入射到裝置中采用的像素中包括的光電二極管的光量會(huì)由于像素的小型化而減少。因此難以獲得足夠的靈敏度。
另外,在固態(tài)成像裝置中,廣泛使用三原色的原色濾光片,所述三原色是紅色、藍(lán)色和綠色。原色濾光片被展開(kāi)以形成所謂的Bayer陣列,Bayer陣列是棋盤(pán)式設(shè)計(jì)。在利用所述濾色片的固態(tài)成像裝置中,光不可避免地被濾色片吸收。因此,光的利用效率降低,另外,在一些情況下在去馬賽克(demosaic)處理期間可能產(chǎn)生錯(cuò)誤的顏色。
另一方面,如像日本專利特開(kāi)No.2006-278446一樣的文獻(xiàn)中所公開(kāi)的,已經(jīng)提出了這樣一種固態(tài)成像裝置,其被配置成對(duì)于裝置的每個(gè)像素利用在硅襯底的上表面上形成的第一層作為光電轉(zhuǎn)換部件和利用在硅襯底內(nèi)部的不同深度處形成的第二層作為光電二極管。在硅襯底內(nèi)部,固態(tài)成像裝置采用以下事實(shí):吸收光的波長(zhǎng)沿著深度方向變化。也就是說(shuō),固態(tài)成像裝置被配置成利用第一層和第二層,所述第一層用作被配置成對(duì)具有特定波長(zhǎng)的光執(zhí)行光電轉(zhuǎn)換處理的光電轉(zhuǎn)換部件,所述第二層用作用于對(duì)具有不同于特定波長(zhǎng)的其它光執(zhí)行光電轉(zhuǎn)換處理的光電二極管。
因此,日本專利特開(kāi)No.2006-278446中公開(kāi)的固態(tài)成像裝置不需要濾色片,使得隨著光的利用效率降低,固態(tài)成像裝置能夠避免由于濾色片引起的降低。另外,由于現(xiàn)有的去馬賽克處理也不在必需,因此也可以避免產(chǎn)生錯(cuò)誤的顏色。
順便提及,在硅襯底的上表面上形成的光電轉(zhuǎn)換部件被配置成包括光電轉(zhuǎn)換膜,其下表面和上表面是將膜夾在中間的透明電極。例如,在光電轉(zhuǎn)換部件中采用的光電轉(zhuǎn)換膜的下表面上,對(duì)于它們各自的像素展開(kāi)像素電極,彼此遠(yuǎn)離。另一方面,在光電轉(zhuǎn)換部件中采用的光電轉(zhuǎn)換膜的上表面上,提供對(duì)于全部像素公用的對(duì)向電極,被所述像素共享。另外,在現(xiàn)有的固態(tài)成像裝置中,在驅(qū)動(dòng)像素的操作期間,出現(xiàn)在被全部像素共享的公共對(duì)向電極處的電位被維持在恒定電平。在這種狀態(tài)下,具有固定方向的電場(chǎng)被施加到被展開(kāi)在膜的下表面上的像素電極和在膜的上表面上提供的公共對(duì)向電極夾在中間的光電轉(zhuǎn)換膜。
發(fā)明內(nèi)容
如上所述,在驅(qū)動(dòng)像素的操作期間,具有固定方向的電場(chǎng)被一直施加到形成于硅襯底上的光電轉(zhuǎn)換膜,導(dǎo)致膜中大量電荷陷阱不期望地增加的現(xiàn)象。因此,引起了由于光電轉(zhuǎn)換特性的變化造成的可靠性降低的問(wèn)題。
因此,本公開(kāi)的目的是解決上述問(wèn)題以便提供抑制光電轉(zhuǎn)換膜惡化的性能。
按照本公開(kāi)實(shí)施例的成像裝置包括:
多個(gè)像素,被布置用來(lái)形成具有像素行的矩陣,所述像素包括
像素電極,對(duì)于所述像素之一形成于硅襯底上,與對(duì)于其它像素之一所形成的其它像素電極遠(yuǎn)離,
形成于所述像素電極上的光電轉(zhuǎn)換膜,和
形成于所述光電轉(zhuǎn)換膜上的對(duì)向電極;
和
驅(qū)動(dòng)部件,被配置成以在所述像素的曝光時(shí)間段期間將一電位施加到所述光電轉(zhuǎn)換膜的方向相反的方向,在所述像素的所述曝光時(shí)間段以外的預(yù)定定時(shí)將一電位施加到至少具有彼此不同的讀取定時(shí)的所述像素行的每一個(gè)上的所述光電轉(zhuǎn)換膜。
按照本公開(kāi)實(shí)施例提供了一種驅(qū)動(dòng)方法,被采用為用于驅(qū)動(dòng)成像裝置的方法,所述成像裝置包括被布置用來(lái)形成具有像素行的矩陣的多個(gè)像素,所述像素包括:
像素電極,對(duì)于所述像素之一形成于硅襯底上,與對(duì)于其它像素之一所形成的其它像素電極分離,
形成于所述像素電極上的光電轉(zhuǎn)換膜,和
形成于所述光電轉(zhuǎn)換膜上的對(duì)向電極。
所述驅(qū)動(dòng)方法具有以下步驟:以在所述像素的曝光時(shí)間段期間將一電位施加到所述光電轉(zhuǎn)換膜的方向相反的方向,在所述像素的所述曝光時(shí)間段以外的預(yù)定定時(shí)將一電位施加到至少具有彼此不同的讀取定時(shí)的所述像素行的每一個(gè)上的所述光電轉(zhuǎn)換膜。
按照本公開(kāi)實(shí)施例的電子設(shè)備成像裝置,包括:
多個(gè)像素,被布置用來(lái)形成具有像素行的矩陣,所述像素包括:
像素電極,對(duì)于所述像素之一形成于硅襯底上,與對(duì)于其它像素之一所形成的其它像素電極遠(yuǎn)離,
形成于所述像素電極上的光電轉(zhuǎn)換膜,和
形成于所述光電轉(zhuǎn)換膜上的對(duì)向電極;
和
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