[發明專利]曝光裝置和曝光方法、以及曝光單元及使用該單元的曝光方法

有效

• 申請號: 201210191311.1
• 申請日: 2012-06-11
• 公開（公告）號: CN102819195A
• 公開（公告）日: 2012-12-12
• 發明（設計）人: 池淵宏;岡谷秀樹
• 申請（專利權）人: 恩斯克科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京泛誠知識產權代理有限公司 11298
• 代理人: 陳波;文琦

技術領域

本發明涉及一種曝光裝置和曝光方法、以及曝光單元及使用該曝光單元的曝光方法。?

背景技術

將掩模的曝光圖案曝光轉印至基板上的接近式曝光是通過以工件卡盤保持表面上涂布有感光劑的透光性基板（被曝光件），以例如數十μm～數百μm的間距接近至保持于掩模載置臺的掩模保持框上的掩模，向掩模照射圖案曝光用光，并將描繪于掩模上的曝光圖案轉印到基板上的光刻技術來實施。?

另外，作為用于將掩模的曝光圖案曝光轉印到液晶面板或半導體等基板上的曝光裝置，提出了各種能夠實現處理能力的提高的方案（例如參照專利文獻1、2）。?

專利文獻1所記載的曝光裝置采用接近式曝光方式，具有：分別使曝光位置和加載/卸載位置移動的兩臺工件臺；能夠將工件向各加載/卸載位置搬入和搬出的兩臺機械手（robot）；在一個工件臺上的工件進行曝光的期間，能夠在另一個工件臺進行工件的搬入和搬出。另外，在該曝光裝置中，使用一張掩模，對基板的一面進行單次曝光，或將一面分為多個照射區域進行曝光。?

另外，專利文獻2所述的曝光裝置配置有兩個對準光學系統和投影光學系統，以對晶片等2張被曝光基板進行并行曝光和對準信息檢測。?

進而，在專利文獻3所述的曝光裝置中，公開了利用與單臺式裝載臺裝置相同程度的占地面積（footprint），能夠使兩個裝載臺移動的裝載臺裝置，在一個裝載臺處于曝光動作期間，另一個裝載臺進行晶片的更換和對準中的至少一個動作。?

專利文獻1：日本特開2008-158545號公報?

專利文獻2：日本特開2000-40662號公報時?

專利文獻3：日本特開2003-17404號公報?

發明內容

發明要解決的課題?

另一方面，一張基板經曝光后再切割以制造多個面板，但在對玻璃進行熱處理之際，無法對玻璃內部實施熱處理，因此，經熱處理之后再切割的玻璃部分有可能強度不足。特別是以觸摸面板方式使用的液晶顯示器每次受到人手觸摸時，應力會反復作用在其上，有可能發生破損。因此，相對于曝光處理后對基板的切割，更希望預先對與液晶顯示器中采用的尺寸相匹配的基板進行熱處理后再曝光，并要求這些基板能夠高效曝光。?

特別是在基板上對第一層圖案進行一次性曝光的情況下，在基板與掩模之間不進行對準的條件下執行曝光，通常，針對一張或多張掩模，進行一張基板的曝光，期望處理能力的提高。?

在專利文獻1、2所述的曝光裝置中，通過以與曝光動作相同的時機進行基板的搬入/搬出動作或對準動作，實現了處理能力的提高，但并未解決上述課題。?

另外，在專利文獻1、3所述的曝光裝置中，通過與曝光動作同時的并行處理，可實現處理能力的提高，但要求多個基板的曝光動作本?身更有效地進行。?

本發明是鑒于上述課題而提出，其目的在于，提供一種能夠實現處理能力的提高，并能夠更有效地進行多個基板的曝光的曝光裝置和曝光方法、以及曝光單元和使用該單元的曝光方法。?

本發明的上述目的通過下述結構來達到。?

（1）一種曝光裝置，具有：用于保持具有圖案的掩模的掩模載置臺；具有用于保持作為被曝光件的多個基板的工件卡盤的基板載置臺；以及借助上述掩模的圖案向上述基板照射曝光用光的照明光學系統；?

其特征在于，在保持于上述工件卡盤的上述多個基板和保持于上述掩模載置臺的上述掩模圖案對向配置的狀態下，從上述照明光學系統照射上述曝光用光，由此將上述掩模的圖案曝光到上述多個基板上。?

（2）根據（1）所述的曝光裝置，其特征在于，上述掩模具有多個圖案，上述照明光學系統借助上述掩模的多個圖案向上述多個基板照射曝光用光，在保持于上述工件卡盤的上述多個基板與保持于上述掩模載置臺的上述掩模的各圖案對向配置的狀態下，從上述照明光學系統照射上述曝光用光，由此將作為第一層的上述掩模的各圖案單次曝光到上述多個基板上。?

（3）根據（1）所述的曝光裝置，其特征在于，上述基板是預先與液晶顯示器所采用的尺寸匹配的基板。?

（4）根據（2）或（3）所述的曝光裝置，其特征在于，能夠向所述工件卡盤存取的第一搬送裝置和第二搬送裝置配置在互不相同的方向上。?

（5）根據（2）或（3）所述的曝光裝置，其特征在于，能夠向所?述工件卡盤存取的第一、第二搬送裝置夾著上述基板載置臺并相互接近地串聯配置。?