[發(fā)明專利]用于分離的激光裝置和分離方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210191281.4
• 申請日: 2012-06-12
• 公開（公告）號: CN102825390A
• 公開（公告）日: 2012-12-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭志恒;鄭志華
• 申請（專利權(quán)）人: 先進(jìn)科技新加坡有限公司
• 主分類號: B23K26/36
• 分類號: B23K26/36;B23K26/06
• 代理公司: 北京申翔知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11214
• 代理人: 周春發(fā)

1.一種用于分離物體的裝置，該裝置包含有：

激光器，其被配置來發(fā)出具有高斯輻照度分布曲線的激光束；

光束成形設(shè)備，其被配置來重新成形從激光器中發(fā)出的激光束的高斯輻照度分布曲線，該光束成形設(shè)備具有多個非球面透鏡以重新分配該激光束的輻照度，以便于減少該激光束的用于分離物體的有效輻射光譜中的輻照度的變化。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，該多個非球面透鏡包含有：

聚光非球面透鏡，其被操作來聚集激光束；和

發(fā)散非球面透鏡，其被操作來發(fā)散激光束。

3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，該激光束的被重新成形的輻照度分布曲線包含有輻照度峰值，該輻照度峰值在其平均輻照度峰值的15%以內(nèi)變化。

4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，該激光束的被重新成形的輻照度分布曲線包含有輻照度峰值，該輻照度峰值在其平均輻照度峰值的5%以內(nèi)變化。

5.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中，該激光束的被重新成形的輻照度分布曲線包括在激光束中心部位設(shè)置的振蕩型輻射光譜。

6.如權(quán)利要求3所述的裝置，其中，該激光束的被重新成形的輻照度分布曲線包括在激光束中心部位設(shè)置的凹陷型輻射光譜。

7.如權(quán)利要求1所述的裝置，該裝置還包含有：

第一光束擴(kuò)展設(shè)備，其被配置來放大從激光器發(fā)出的激光束。

8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其中，該第一光束擴(kuò)展設(shè)備包含有多個像差校正球面鏡片。

9.如權(quán)利要求1所述的裝置，該裝置還包含有：

第二光束擴(kuò)展設(shè)備，其被配置來改變帶有重新成形后的輻照度分布曲線的激光束，以定義長縱軸和正交于該長縱軸的短軸，該改變后的激光束沿著長縱軸的寬度比沿著短軸的寬度更大。

10.如權(quán)利要求9所述的裝置，其中，該第二光束擴(kuò)展設(shè)備包含有多個柱狀透鏡。

11.如權(quán)利要求9所述的裝置，其中，該改變后的激光束沿著長縱軸的寬度和該改變后的激光束沿著短軸的寬度的比值是在1.5：1和5：1之間。

12.如權(quán)利要求9所述的裝置，其中，該改變后的激光束沿著長縱軸的寬度和該改變后的激光束沿著短軸的寬度的比值是在3：1和5：1之間。

13.如權(quán)利要求9所述的裝置，其中，該改變后的激光束具有大體呈梯形的三維輻照度分布曲線。

14.如權(quán)利要求9所述的裝置，該裝置還包含有：

光束聚焦設(shè)備，其被配置來將改變后的激光束聚焦在物體上，以便于改變后的激光束沿著長縱軸的寬度和物體分離的方向?qū)R。

15.如權(quán)利要求14所述的裝置，其中，該裝置被配置來分離半導(dǎo)體晶圓。

16.一種用作為如權(quán)利要求1所述裝置中的光束成形設(shè)備的設(shè)備。

17.一種分離物體的方法，該方法包含有以下步驟：

發(fā)出具有高斯輻照度分布曲線的激光束；

使用多個非球面透鏡重新分配該發(fā)出的激光束的輻照度，以重新成形高斯輻照度分布曲線，以便于減少該激光束的用于分離物體的有效輻射光譜中的輻照度的變化。

18.如權(quán)利要求17所述的方法，該方法還包含有以下步驟：

在重新分配激光束的輻照度的步驟以前，放大發(fā)出的激光束。

19.如權(quán)利要求17所述的方法，該方法還包含有以下步驟：

在重新分配激光束的輻照度的步驟以后，改變該激光束，以便于該改變后的激光束限定長縱軸和正交于該長縱軸的短軸，其中該改變后的激光束沿著長縱軸的寬度比沿著短軸的寬度更大。

20.如權(quán)利要求19所述的方法，該方法還包含有以下步驟：

在重新分配激光束的輻照度的步驟以后，將改變后的激光束聚焦在物體上，以便于改變后的激光束沿著長縱軸的寬度和物體分離的方向?qū)R。