[發明專利]一種鎂合金微弧氧化-電泳復合涂層及其制備方法

有效

• 申請號: 201210190789.2
• 申請日: 2012-06-11
• 公開（公告）號: CN102677127A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 慕偉意;李爭顯;杜繼紅;駱瑞雪
• 申請（專利權）人: 西北有色金屬研究院
• 主分類號: C25D11/30
• 分類號: C25D11/30;C25D13/00
• 代理公司: 西安創知專利事務所 61213
• 代理人: 譚文琰

1.一種鎂合金微弧氧化-電泳復合涂層，由經微弧氧化處理后覆于鎂合金表面的陶瓷層和經電泳處理后沉積于所述陶瓷層表面的沉積層組成，其特征在于，所述陶瓷層的厚度為15μm～35μm，表面粗糙度Ra為2.0μm～4.5μm，孔隙率為15％～40％；所述沉積層的厚度為20μm～45μm。

2.根據權利要求1中所述的一種鎂合金微弧氧化-電泳復合涂層，其特征在于，所述陶瓷層的厚度為20μm～30μm，表面粗糙度Ra為2.5μm～3.5μm，孔隙率為20％～30％；所述沉積層的厚度為30μm～40μm。

3.根據權利要求2中所述的一種鎂合金微弧氧化-電泳復合涂層，其特征在于，所述陶瓷層的厚度為25μm，表面粗糙度Ra為3.0μm，孔隙率為25％；所述沉積層的厚度為35μm。

4.一種制備如權利要求1、2或3中所述鎂合金微弧氧化-電泳復合涂層的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

步驟一、將鎂合金經有機溶劑或去離子水清洗干凈后，置于微弧氧化電解液中，以鎂合金為陽極，以不銹鋼為陰極，維持微弧氧化電解液的溫度為20℃～40℃，采用脈沖電源，在電壓為400V～650V、頻率為100Hz～300Hz、占空比為20％～45％的條件下微弧氧化處理20min～40min，在鎂合金表面得到陶瓷層；所述微弧氧化電解液為硅酸鹽系電解液或鋁酸鹽系電解液；

步驟二、將步驟一中表面覆有陶瓷層的鎂合金置于電泳液中，以表面覆有陶瓷層的鎂合金為陰極，以不銹鋼為陽極，維持電泳液的溫度為15℃～30℃，采用脈沖電源，在電壓為180V～300V、頻率為100Hz～600Hz、占空比為10％～20％的條件下電泳處理2min～5min，在陶瓷層表面得到沉積層；所述電泳液為陽離子型電泳液；

步驟三、將步驟二中表面覆有陶瓷層和沉積層的鎂合金進行固化處理，自然冷卻后在鎂合金表面得到鎂合金微弧氧化-電泳復合涂層。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，步驟一中所述有機溶劑為丙酮或乙酸乙酯。

6.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，步驟一中所述硅酸鹽系電解液由硅酸鈉、添加劑和去離子水配制而成；所述硅酸鹽系電解液中硅酸鈉的質量濃度為7g/L～28g/L，添加劑的質量濃度為0.5g/L～4g/L；所述添加劑為氟化鈉、氟化鉀、磷酸三鈉或六偏磷酸鈉。

7.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，步驟一中所述硅酸鹽系電解液由硅酸鈉和去離子水配制而成；所述硅酸鹽系電解液中硅酸鈉的質量濃度為7g/L～28g/L。

8.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，步驟一中所述鋁酸鹽系電解液由鋁酸鈉、添加劑和去離子水配制而成；所述鋁酸鹽系電解液中鋁酸鈉的質量濃度為8g/L～12g/L，添加劑的質量濃度為2g/L～6g/L；所述添加劑為氟化鈉、氟化鉀、磷酸三鈉或六偏磷酸鈉。

9.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，步驟二中所述陽離子型電泳液按以下方法制備得到：將陽離子型環氧電泳漆與色料按體積比3～5∶1混合后，均勻地分散于去離子水中，得到陽離子型電泳液；所述陽離子型電泳液中去離子水的體積百分數為50％～70％。

10.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，步驟三中所述固化處理的溫度為180℃～185℃，固化處理的時間為20min～25min。