[發明專利]涂布液、光學各向異性膜和圖像顯示裝置無效
| 申請號: | 201210189871.3 | 申請日: | 2012-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN102816571A | 公開(公告)日: | 2012-12-12 |
| 發明(設計)人: | 尾之內久成 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | C09K19/34 | 分類號: | C09K19/34;G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 涂布液 光學 各向異性 圖像 顯示裝置 | ||
技術領域
本發明涉及可用作光學薄膜的形成材料的涂布液,和使用該涂布液形成的光學各向異性膜以及設置有該光學各向異性膜的圖像顯示裝置。?
背景技術
作為生產光學各向異性膜的方法,迄今已知有在展開表面(developing?surface)上涂布通過將溶液狀態的顯示液晶性的化合物溶解于溶劑而獲得的涂布液來形成涂膜,并固化涂膜的方法(所謂的溶液澆鑄法)。這樣的化合物也稱為溶致液晶性化合物。?
由于溶致液晶性化合物在涂布液中形成柱狀結構(超分子聚集體),通過固化含有該化合物的涂膜而獲得的膜可用作偏振膜等。?
上述溶致液晶性化合物在其分子中具有π-共軛體系平面骨架部分。在溶液狀態中,多個溶致液晶性化合物分子通過將其平面骨架部分彼此堆疊而形成柱狀結構。?
然而,溶致液晶性化合物具有π-共軛體系平面骨架部分,所以其在溶劑中具有低溶解度。?
非專利文獻1公開為了改善具有平面骨架部分如苝類骨架的溶致液晶性化合物的溶劑可溶性,用具有極性基團如COOH基團的長鏈烷基來取代平面骨架部分的末端。?
然而,該長鏈烷基的引入引起抑制平面骨架部分的上述堆疊的可能性。出于這樣的原因,包含其中引入長鏈烷基的溶致液晶性化合物的涂布液有時不形成良好的柱狀結構。?
專利文獻1公開具有平面骨架部分如苝類骨架和磺酸基的溶致液晶性化合物。這樣的化合物由于存在磺酸基因此在水性溶劑中的溶解度方面優異。這樣的含磺酸基的溶致液晶性化合物通過用發煙硫酸或濃硫酸來處理苝類化合物等來合成。?
然而,上述硫酸處理需要注意硫酸的操作。另外,其難以將磺酸基引入平面骨架部分的特定位置。因此,含磺酸基的溶致液晶性化合物具有其合成復雜的問題。?
發明內容
本發明的目的是提供通過使用溶劑溶解度優異的溶致液晶性化合物來形成良好柱狀結構的涂布液。?
在第一方面,本發明涉及涂布液,其包括:?
具有π-共軛體系平面骨架部分和鍵合到平面骨架部分的一個或多個含氮雜環陽離子部分或含氮雜芳族陽離子部分的溶致液晶性化合物;和溶劑。?
根據本發明的涂布液,優選含氮雜環陽離子部分或含氮雜芳族陽離子部分具有含共軛雙鍵和構成雜環的氮原子作為陽離子。?
根據本發明的涂布液,優選烷基鍵合到構成含氮雜環陽離子部分或含氮雜芳族陽離子部分的雜環的氮陽離子。該烷基優選具有1至4個碳原子。?
根據本發明的涂布液,優選一個或多個含氮雜環陽離子部分或含氮雜芳族陽離子部分鍵合到π-共軛體系平面骨架部分的端部。?
根據本發明的涂布液,優選含氮雜環陽離子部分或含氮雜芳族陽離子部分形成π-共軛體系平面骨架部分的一部分以擴展π-共軛體系平面骨架部分。?
在第二方面,本發明涉及通過在展開表面上涂布任何上述涂布液以形成涂膜并固化該涂膜來獲得的光學各向異性膜。?
在第三方面,本發明涉及設置有上述光學各向異性膜作為其構成構件的圖像顯示裝置。?
本發明的涂布液中,由于溶致液晶性化合物很好地溶解于溶劑中,所以多個溶致液晶性化合物分子形成良好的柱狀結構。在由這樣的涂布液形成的涂膜中,溶致液晶性化合物很好地取向,并可以由該涂膜形成光學各向異性膜。?
附圖說明
圖1:圖1為顯示根據本發明一個實施方案的光學各向異性膜的局部截面圖。?
圖2:圖2為顯示根據本發明一個實施方案的偏振片的局部截面圖。?
附圖標記說明
1:光學各向異性膜?
2:基材?
3:保護膜?
5:偏振片?
具體實施方式
[涂布液]?
本發明的涂布液包括溶致液晶性化合物和溶劑。?
溶致液晶性化合物是具有通過改變液體溫度或化合物濃度等引起液體中各向同性相和液晶相之間的相變的性質的化合物。?
本發明的涂布液通過形成溶致液晶性化合物的柱狀結構?(超分子聚集體)來形成液晶相。上述涂布液適于,例如作為形成光學各向異性膜例如偏振膜,或有機電子元件的有機半導體層的材料。?
此外,本說明書中,“XXX至YYY”的描述指“XXX以上至YYY以下”。另外,本說明書中,“取代或未取代的”描述指“具有取代基或不具有取代基”。?
(溶致液晶性化合物)?
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