[發明專利]介質處理裝置

有效

• 申請號: 201210189728.4
• 申請日: 2012-06-08
• 公開（公告）號: CN102825918A
• 公開（公告）日: 2012-12-19
• 發明（設計）人: 關口孝久;丸尾卓也
• 申請（專利權）人: 株式會社御牧工程
• 主分類號: B41J11/00
• 分類號: B41J11/00;B41J11/66
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種介質處理裝置，其利用第一處理部件和第二處理部件對介質進行至少兩種處理，該介質處理裝置的特征在于，

該介質處理裝置包括滑架，該滑架包括：

第一保持部件，其用于保持上述第一處理部件；

第二保持部件，其用于保持上述第二處理部件；

距離改變部件，其在上述第一保持部件保持上述第一處理部件且上述第二保持部件保持上述第二處理部件的狀態下，使該第一處理部件和第二處理部件中的一處理部件與上述介質之間的距離大于或小于另一處理部件與上述介質之間的距離。

2.根據權利要求1所述的介質處理裝置，其特征在于，

上述距離改變部件通過使上述第一處理部件和上述第二處理部件中的一處理部件以某一旋轉軸為軸進行旋轉移動來改變該一處理部件與上述介質之間的距離。

3.根據權利要求2所述的介質處理裝置，其特征在于，

上述距離改變部件使一處理部件進行上述旋轉移動，

將另一處理部件固定在上述距離改變部件以外的構件上而不使另一處理部件進行旋轉移動。

4.根據權利要求3所述的介質處理裝置，其特征在于，

上述滑架包括：

上下位置控制部件，其用于控制上述第一處理部件和上述第二處理部件的上下位置；

支承體，其用于對上述上下位置控制部件使上述第一處理部件和上述第二處理部件進行上下移動的力進行傳遞；

上述支承體是供不進行旋轉移動的上述另一處理部件固定的、上述距離改變部件以外的構件。

5.根據權利要求2所述的介質處理裝置，其特征在于，

上述距離改變部件使上述第一處理部件和上述第二處理部件都進行旋轉移動，該旋轉移動是如下的移動，即，在上述第一處理部件靠近上述介質時，使上述第二處理部件遠離上述介質，在上述第二處理部件靠近上述介質時，使上述第一處理部件遠離上述介質。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的介質處理裝置，其特征在于，

上述滑架在介質上進行往復移動，

上述距離改變部件包括兩個開關，通過按壓一開關來使一處理部件與上述介質之間的距離小于另一處理部件與上述介質之間的距離，通過按壓另一開關來使該一處理部件與上述介質之間的距離大于該另一處理部件與上述介質之間的距離，

在當上述滑架利用上述往復移動到達一端時一開關被按壓的位置處設有用于按壓一開關的第一突出部，在當上述滑架到達另一端時另一開關被按壓的位置處設有用于按壓另一開關的第二突出部。

7.根據權利要求1～6中任一項所述的介質處理裝置，其特征在于，

上述滑架包括對上述第一處理部件和上述第二處理部件的上下位置進行控制的上下位置控制部件，

上述上下位置控制部件在將上述第一處理部件向上述介質按壓時與將上述第二處理部件向上述介質按壓時，對將上述第一處理部件和上述第二處理部件中的、靠近上述介質的一處理部件按壓到上述介質上的力進行改變。

8.根據權利要求1～7中任一項所述的介質處理裝置，其特征在于，

上述第一處理部件和上述第二處理部件中的一處理部件用于在上述介質上進行繪圖，另一處理部件用于切割上述介質。