[發明專利]曝光裝置

無效

• 申請號: 201210189515.1
• 申請日: 2012-06-08
• 公開（公告）號: CN102866588A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發明（設計）人: 池淵宏;岡谷秀樹
• 申請（專利權）人: 恩斯克科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京泛誠知識產權代理有限公司 11298
• 代理人: 陳波;朱弋

1.一種曝光裝置，包括：用于保持形成有圖案的掩模的掩模保持架；固定所述掩模保持架的掩模載置臺；沿上下方向驅動所述掩模載置臺的掩模上下驅動機構；用于保持基板的基板載置臺；沿上下方向驅動所述基板載置臺的基板上下驅動機構；和借助所述掩模向所述基板照射曝光用光的照明光學系統，所述曝光裝置使所述掩模與所述基板的主表面相對接近，能夠以用于將所述圖案轉印到所述基板的主表面而使用的接近方式和接觸方式這兩種方式進行曝光，其特征在于，

在所述掩模保持架和所述基板載置臺中的其中一方上，設有多個配置在所述掩模或所述基板的周圍，并能夠調節自身的長度的間隙限制機構，

當所述掩模與所述基板之間的間隙變成預期的間隙時，所述間隙限制機構與所述掩模保持架和所述基板載置臺中的另一方抵接。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于：

具備破裂防止機構，所述破裂防止機構配置在所述掩模載置臺與掩模側基體之間、或所述基板載置臺與基板側基體之間中的至少一方，用于緩沖或避免所述掩模與所述基板接觸時所產生的按壓力。

3.如權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于：

所述破裂防止機構具有緩沖部件，所述緩沖部件基于彈性變形來緩沖所述按壓力。

4.如權利要求3所述的曝光裝置，其特征在于：

所述緩沖部件為彈簧。