[發明專利]電鍍法進行線路板表面處理的方法無效
| 申請號: | 201210189449.8 | 申請日: | 2012-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN103037626A | 公開(公告)日: | 2013-04-10 |
| 發明(設計)人: | 黃明安 | 申請(專利權)人: | 北京凱迪思電路板有限公司;武漢凱迪思特科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/00 | 分類號: | H05K3/00;H05K3/22 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 102600 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電鍍 進行 線路板 表面 處理 方法 | ||
1.電鍍法表面處理的具體過程是:
線路制造→化學沉銅→濕膜代替阻焊涂覆→酸性微蝕→電鍍法表面處理→退濕膜→堿性微蝕→阻焊涂覆。
2.權利要求1中的化學沉銅采用普通的化學銅工藝,不需要進行除膠渣處理,化學沉銅的目的是把所有的焊盤進行電性導通,化學銅的厚度是0.2~0.8um。
3.?權利要求1中的濕膜涂覆采用與阻焊涂覆一樣的方法,濕膜涂覆的目的是把不需要電鍍的表面覆蓋住,濕膜的厚度是10~15um,濕膜涂覆前不要進行化學清洗和機械刷板處理。
4.?濕膜曝光采用跟阻焊曝光同樣的菲林進行曝光,如果要電鍍的網絡沒有阻焊覆蓋則不會電性導通,所以濕膜所用曝光菲林要預先進行檢查和修正,確保每個網絡都要連銅,采用濕膜而不是干膜的原因是干膜對凹凸線路的密貼性不好。
5.權利要求1中的酸性微蝕的目的是去除焊盤附近的化學銅,微蝕量為1~2um,只暴露出焊盤位置,以利于只對焊盤進行電鍍。
6.權利要求1中的電鍍法表面處理是把焊盤作為陰極,待鍍金屬作為陽極進行電鍍,可以在焊盤上電鍍各種金屬,例如錫、鎳金、銀,由于是采用電鍍的方法,電鍍金屬的純度和厚度都可以很方便的控制,可以實現很厚的金層以達到航空等高可靠性的要求。
7.權利要求1中的退濕膜采用正常的燒堿進行剝離處理,電鍍的金屬活性較大時,可以采用異丙醇、丙酮等有機溶劑去除濕膜。
8.權利要求1中的堿性微蝕是為了去除輔助的化學銅層,而不對電鍍的金屬層產生腐蝕,堿性微蝕量為1~2um,堿性微蝕液的成分為氨水和雙氧水。
9.??權利要求1中的阻焊涂覆時不能采用機械的方法進行前處理,以免刷磨掉電鍍的金屬,對銅面進行粗化可以與堿性微蝕步驟合在一起,也就是堿性微蝕后水洗烘干后直接涂覆阻焊。
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