[發(fā)明專利]光刻機運動臺反力抵消裝置及應(yīng)用其的光刻機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210189442.6
• 申請日: 2012-06-08
• 公開（公告）號: CN103472681A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 秦磊;朱岳彬;曹文
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種光刻機運動臺反力抵消裝置，其特征是，包括：

反力框架，設(shè)置于光刻機基礎(chǔ)框架上；

配重塊，設(shè)置于光刻機運動臺電機定子的一端；

阻尼元件，其一端連接于所述電機定子的一端，另一端連接于所述反力框架；以及

彈性元件，一端連接于所述的電機定子，另一端連接于所述反力框架；

所述彈性元件設(shè)置在所述電機定子的兩端；

所述電機定子設(shè)置在滑塊上，所述滑塊設(shè)置在運動臺大理石之上的固定直線導(dǎo)軌上，所述滑塊帶動所述電機定子沿所述固定直線導(dǎo)軌做直線運動；

其中當(dāng)所述電機定子與所述滑塊、所述配重塊一起在電機驅(qū)動反力作用下沿所述固定直線導(dǎo)軌做直線運動時，所述電機定子與所述滑塊、所述配重塊的動能在所述配重塊與所述阻尼元件的作用下逐漸衰減，在所述電機定子停止運動后，所述電機定子在所述彈性元件的作用下回復(fù)至初始位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機運動臺反力抵消裝置，其特征是，所述阻尼元件與所述彈性元件通過所述反力框架將力傳遞至基礎(chǔ)框架。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機運動臺反力抵消裝置，其特征是，還包括：

第一位移測量元件，位于所述電機定子與所述運動臺電機動子之間，用于測量所述電機定子與所述運動臺電機動子之間的相對位移；以及

第二位移測量元件，位于所述電機動子與所述運動臺大理石之間，用于測量所述電機動子與所述運動臺大理石之間的相對位移。

4.一種光刻機，其特征是，包括：

基礎(chǔ)框架；

內(nèi)部框架；

曝光系統(tǒng)；

運動臺；以及

如權(quán)利要求1至3中任意一項所述的光刻機運動臺反力抵消裝置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光刻機，其特征是，所述曝光系統(tǒng)和所述運動臺都設(shè)置在所述內(nèi)部框架內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻機，其特征是，所述基礎(chǔ)框架與所述內(nèi)部框架之間設(shè)置有減震器。