[發(fā)明專利]硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210189441.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103472680A | 公開(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備有限公司;上海微高精密機(jī)械工程有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/68 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時(shí)云 |
| 地址: | 201203 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硅片 對(duì)準(zhǔn) 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域,尤其涉及一種硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置。
背景技術(shù)
光影刻蝕法是將描繪在掩模版上的電路圖案,通過投影曝光裝置成像在涂有光刻膠等感光材料的制造集成電路的硅片表面上,之后通過刻蝕工藝在制造集成電路的硅片表面上以形成圖案。
投影曝光裝置是將掩模版上的電路圖案,經(jīng)過投影曝光透鏡等光學(xué)系統(tǒng)做投影曝光,將電路圖案以一定放大或縮小的倍率投影于制造集成電路的硅片表面上。
用投影曝光裝置做曝光時(shí),掩模版與曝光對(duì)象(例如硅片等)的位置必須對(duì)準(zhǔn),通常掩模版上方與曝光對(duì)象上方均配置有位置對(duì)準(zhǔn)用的標(biāo)記,通過一定的位置對(duì)準(zhǔn)裝置和位置對(duì)準(zhǔn)方法,建立起掩模版與曝光對(duì)象之間精確的相對(duì)位置關(guān)系。
目前用于投影曝光裝置中的硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置和預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法很多,但由于其硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的復(fù)雜性,要想提高預(yù)對(duì)準(zhǔn)精度,并降低預(yù)對(duì)準(zhǔn)時(shí)間還存在一定難度。不合適的硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置將使曝光裝置的對(duì)準(zhǔn)過程變得復(fù)雜,增加對(duì)準(zhǔn)時(shí)間,最終影響設(shè)備的產(chǎn)率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置,以改善現(xiàn)有技術(shù)的缺失。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供的硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置用于實(shí)現(xiàn)硅片的定心與硅片的缺口的定向,其包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)、數(shù)據(jù)采集模組、定心臺(tái)以及調(diào)整模組。旋轉(zhuǎn)臺(tái)用于承載硅片,且旋轉(zhuǎn)臺(tái)具有旋轉(zhuǎn)中心。數(shù)據(jù)采集模組用于采集硅片的邊緣的數(shù)據(jù)與缺口的數(shù)據(jù),并計(jì)算硅片的中心與旋轉(zhuǎn)中心的偏移量與缺口的頂點(diǎn)位置。定心臺(tái)能夠吸附硅片。調(diào)整模組連接于數(shù)據(jù)采集模組與定心臺(tái),以帶動(dòng)定心臺(tái)運(yùn)動(dòng),且調(diào)整模塊包括X向調(diào)整單元、Z向調(diào)整單元以及Rz向調(diào)整單元。定心臺(tái)在Z向調(diào)整單元的帶動(dòng)下沿Z向運(yùn)動(dòng)以吸附硅片后,X向調(diào)整單元與Rz向調(diào)整單元根據(jù)偏移量,調(diào)整硅片的位置,以使硅片的中心與旋轉(zhuǎn)中心重合,之后,旋轉(zhuǎn)臺(tái)根據(jù)頂點(diǎn)位置旋轉(zhuǎn)硅片至預(yù)定角度,以完成缺口的定向。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,X向調(diào)整單元包括X向電機(jī)與X向?qū)к墸琗向電機(jī)連接數(shù)據(jù)采集模組與定心臺(tái),根據(jù)偏移量在X向的分量來驅(qū)動(dòng)定心臺(tái)沿X向?qū)к夁\(yùn)動(dòng)。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,Z向調(diào)整單元包括Z向電機(jī)與Z向?qū)к墸琙向電機(jī)連接定心臺(tái),驅(qū)動(dòng)定心臺(tái)沿Z向?qū)к夁\(yùn)動(dòng)。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,Rz向調(diào)整單元包括弧形導(dǎo)軌、導(dǎo)向柱與旋轉(zhuǎn)電機(jī),弧形導(dǎo)軌位于定心臺(tái)上,且其圓心與旋轉(zhuǎn)臺(tái)的旋轉(zhuǎn)中心重合,導(dǎo)向柱固定不動(dòng),并對(duì)應(yīng)弧形導(dǎo)軌,旋轉(zhuǎn)電機(jī)連接數(shù)據(jù)采集模組與定心臺(tái),硅片的中心與旋轉(zhuǎn)中心的偏移量來驅(qū)動(dòng)定心臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng),其轉(zhuǎn)動(dòng)軌跡即沿著弧形導(dǎo)軌。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,旋轉(zhuǎn)臺(tái)具有第一真空吸盤,以吸附硅片。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,定心臺(tái)具有第二真空吸盤,以吸附硅片。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,數(shù)據(jù)采集模組包括照明光源、圖像傳感器以及數(shù)據(jù)采集元件,硅片位于照明光源與圖像傳感器之間,數(shù)據(jù)采集元件連接于圖像傳感器。照明光源照亮硅片的邊緣并投影至圖像傳感器,圖像傳感器采集硅片的邊緣的數(shù)據(jù)與缺口的數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)采集元件根據(jù)圖像傳感器的采集數(shù)據(jù)分別計(jì)算偏移量與缺口的頂點(diǎn)位置。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,照明光源為平行光輸出。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,圖像傳感器為電荷耦合元件光傳感器。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,圖像傳感器為位置敏感光傳感器。
本發(fā)明提供的硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置通過包括三個(gè)方向調(diào)整單元的調(diào)整模組來實(shí)現(xiàn)硅片的預(yù)對(duì)準(zhǔn),減少了一個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)裝置,降低了產(chǎn)品的成本,同時(shí)也提高了預(yù)對(duì)準(zhǔn)的工作效率。
附圖說明
圖1是本發(fā)明一較佳實(shí)施例的硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的示意圖;
圖2是圖1所示的硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的側(cè)視圖;
圖3是圖1所示的硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置的俯視圖;
圖4是本發(fā)明一較佳實(shí)施例的硅片預(yù)對(duì)準(zhǔn)方法的流程圖;
圖5是圖4中采集到的硅片的邊緣的數(shù)據(jù);
圖6圖4中采集到的硅片的缺口的數(shù)據(jù);
圖7是本發(fā)明一較佳實(shí)施例的硅片中心偏移的示意圖。
具體實(shí)施方式
以下將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的構(gòu)思、具體結(jié)構(gòu)及產(chǎn)生的技術(shù)效果作進(jìn)一步說明,以充分地了解本發(fā)明的目的、特征和效果。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海微電子裝備有限公司;上海微高精密機(jī)械工程有限公司,未經(jīng)上海微電子裝備有限公司;上海微高精密機(jī)械工程有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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