[發明專利]基板垂向光電檢測裝置及方法

有效

• 申請號: 201210189343.8
• 申請日: 2012-06-08
• 公開（公告）號: CN103472677A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 陳南曙;李術新
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01B11/02;G01B11/26
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種基板垂向光電檢測裝置，其特征在于，包括：用于產生入射到所述待測基板上的投影光束的激光源，在所述投影光束于待測基板上的反射光方向依次設置有檢測光柵、第一透鏡、楔形棱鏡組、參考光柵及檢測模塊，所述投影光束的反射光經過檢測光柵產生衍射，該各級次的衍射光由第一透鏡收集進而由對應設置的楔形棱鏡組分離，分離后經過對應設置的所述參考光柵再度產生衍射，再分別由對應設置的檢測模塊的接收以檢測各級次的衍射光的光強。

2.根據權利要求1所述的基板垂向光電檢測裝置，其特征在于，所述基板垂向光電檢測裝置還包括設于所述參考光柵及檢測模塊之間的調制光柵，所述調制光柵用來確定待測基板垂向運動過程中的方向。

3.根據權利要求2所述的基板垂向光電檢測裝置，其特征在于，所述調制光柵與參考光柵的結構相同，所述調制光柵相對于參考光柵有四分之一個光柵周期的偏移，所述偏移在光強變化曲線中反應為π/4的相位偏移。

4.根據權利要求1所述的基板垂向光電檢測裝置，其特征在于，所述參考光柵與檢測光柵的光柵周期相同且為非刻槽部分鍍鉻的透射式光柵結構。

5.根據權利要求4所述的基板垂向光電檢測裝置，其特征在于，所述檢測模塊接收到的各級衍射光光強I與待測基板的高度Z之間的關系為：

I=Σn=-mmI0(sinαα)2(sinN2δsinδ2)2(1-2Zsinγkd),]]>

其中，k為參考光柵周期的個數，k=1,2…n，m為衍射級次，m=0，1，2…n，N為所述投影光束寬度所占檢測光柵周期的個數，I₀為投影光束光強，α=πλasinθ,]]>δ=2πλdsinθ,]]>a為檢測光柵縫寬，λ為投影光束波長，θ=arcsinmλd,]]>d為檢測光柵的周期。