[發(fā)明專利]旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶及相應(yīng)的磁控濺射裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210187715.3
• 申請日: 2012-06-08
• 公開（公告）號: CN102719799A
• 公開（公告）日: 2012-10-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 寇浩
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 歐陽啟明

1.一種旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于，包括：

圓柱形靶材，其內(nèi)部包括一容納空間；

極靴，設(shè)置于所述容納空間內(nèi)；

磁控管，沿所述圓柱形靶材的軸向鑲嵌于所述極靴的外表面，包括設(shè)置在所述磁控管中部的第一磁極以及設(shè)置在所述磁控管兩側(cè)的第二磁極，所述第一磁極和第二磁極的極性相反。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于，所述第二磁極的磁強大于所述第一磁極的磁強。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于，相鄰的所述磁控管的所述第二磁極的極性相反。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于，所述極靴為圓柱體或正棱柱體。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于，所述極靴與所述圓柱形靶材同軸。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶包括至少四個所述磁控管，所述磁控管均勻的鑲嵌于所述極靴的整個外表面。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶包括六個所述磁控管，所述磁控管均勻的鑲嵌于所述極靴的整個外表面。

8.一種磁控濺射裝置，其特征在于，包括：

屏蔽罩，包括一濺射口；

基板，設(shè)置在所述濺射口，用于沉積鍍膜材料；以及

旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，設(shè)置在所述屏蔽罩與所述基板構(gòu)成的腔體內(nèi)，包括：

圓柱形靶材，其內(nèi)部包括一容納空間；

極靴，設(shè)置于所述容納空間內(nèi)；

磁控管，沿所述圓柱形靶材的軸向鑲嵌于所述極靴的外表面，包括設(shè)置在所述磁控管中部的第一磁極以及設(shè)置在所述磁控管兩側(cè)的第二磁極，所述第一磁極和第二磁極的極性相反。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述第二磁極的磁強大于所述第一磁極的磁強，相鄰的所述磁控管的所述第二磁極的極性相反。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶包括六個所述磁控管，所述磁控管均勻的鑲嵌于所述極靴的整個外表面。