[發(fā)明專利]一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的裝置和方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210185861.2 | 申請日: | 2012-06-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102717190A | 公開(公告)日: | 2012-10-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙裕興;狄建科;張偉;益凱劼;張子國;蔡仲云;閆華 | 申請(專利權(quán))人: | 江陰德力激光設(shè)備有限公司 |
| 主分類號(hào): | B23K26/36 | 分類號(hào): | B23K26/36;B23K26/06;B23K26/16;B23K26/42 |
| 代理公司: | 江陰市同盛專利事務(wù)所 32210 | 代理人: | 唐紉蘭;沈國安 |
| 地址: | 214434 江蘇省無錫市江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 脈沖 激光 刻蝕 有機(jī)玻璃 導(dǎo)電 裝置 方法 | ||
1.一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的裝置,其特征在于:所述裝置包含有激光刻蝕設(shè)備,所述激光刻蝕設(shè)備包含有激光器(1)、光閘(2)、1/2波片(3)、格蘭棱鏡(4)、擴(kuò)束鏡(5)、全反鏡片(6)、振鏡系統(tǒng)(7)和遠(yuǎn)心場鏡(8),所述激光器(1)發(fā)出的激光依次經(jīng)光閘(2)、1/2波片(3)和格蘭棱鏡(4)后射入擴(kuò)束鏡(5)對光束進(jìn)行同軸擴(kuò)束,經(jīng)擴(kuò)束鏡(5)擴(kuò)束準(zhǔn)直后的激光到達(dá)全反鏡片(6),經(jīng)全反鏡片(6)反射后的激光射入振鏡系統(tǒng)(7),射出振鏡系統(tǒng)(7)的激光經(jīng)遠(yuǎn)心場鏡(8)后聚焦到被吸附于真空吸附平臺(tái)(13)上的待加工件(12)上。
2.如權(quán)利要求1所述一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的裝置,其特征在于:所述激光器(1)為高頻率短脈沖激光器。
3.如權(quán)利要求1所述一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的裝置,其特征在于:所述裝置包含有高度測量儀(16),且高度測量儀(16)設(shè)置于振鏡系統(tǒng)(7)上。
4.如權(quán)利要求3所述一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的裝置,其特征在于:所述高度測量儀(16)為非接觸式高度測量儀。
5.如權(quán)利要求1或2或3所述一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的裝置,其特征在于:所述激光器(1)、振鏡系統(tǒng)(7)和高度測量儀(16)均通過通訊系統(tǒng)(15)與工控機(jī)(14)相連。
6.如權(quán)利要求5所述一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的裝置,其特征在于:所述作為待加工件(12)的有機(jī)玻璃通過真空吸附平臺(tái)(13)進(jìn)行固定,所述作為待加工件(12)的有機(jī)玻璃的導(dǎo)電膜層的上方設(shè)置有一CCD對位觀察系統(tǒng)(9)。
7.如權(quán)利要求6所述一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的裝置,其特征在于:所述作為待加工件(12)的有機(jī)玻璃的導(dǎo)電膜層的上方兩側(cè)分別設(shè)置有集塵系統(tǒng)(10)和吹氣系統(tǒng)(11)。
8.一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的方法,其特征在于:所述方法采用如權(quán)利要求6所述的一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上雙面導(dǎo)電膜的裝置,該方法包含有以下步驟:
步驟一、激光器(1)發(fā)出的激光經(jīng)1/2波片(3)和格蘭棱鏡(4)后,再經(jīng)擴(kuò)束鏡(5)準(zhǔn)直擴(kuò)束后,再通過振鏡系統(tǒng)(7)和具有較小焦距的遠(yuǎn)心場鏡(8)聚焦,使聚焦光斑在5um~20um;?
步驟二、將作為待加工件(12)的有機(jī)玻璃吸附于真空吸附平臺(tái)(13)上,配合著高度測量儀(16)進(jìn)行實(shí)時(shí)測量,將測量數(shù)據(jù)反饋給工控機(jī)(14),工控機(jī)(14)會(huì)對數(shù)據(jù)進(jìn)行處理從而調(diào)整焦距,有效的保證焦點(diǎn)始終聚焦在有機(jī)玻璃表面的導(dǎo)電膜上;
步驟三、進(jìn)行CCD定位;利用具有CCD自動(dòng)抓靶功能的CCD對位觀察系統(tǒng)(9)對蝕刻圖形進(jìn)行定位,隨后開始激光刻蝕操作。
9.如權(quán)利要求8所述一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的方法,其特征在于:所述方法還包含有步驟四:激光按照設(shè)計(jì)圖形進(jìn)行蝕刻時(shí),同時(shí)打開設(shè)置于作為待加工件(12)的有機(jī)玻璃的導(dǎo)電膜的上方兩側(cè)的集塵系統(tǒng)(10)和吹氣系統(tǒng)(11),確保蝕刻產(chǎn)生的粉塵全部吸入集塵系統(tǒng)(10)中。
10.如權(quán)利要求8所述一種脈沖激光刻蝕有機(jī)玻璃上導(dǎo)電膜層的方法,其特征在于:所述激光器(1)為M2<1.5的高頻率的脈沖激光器,所述擴(kuò)束鏡(5)為2X-20X的擴(kuò)束鏡,所述遠(yuǎn)心場鏡(8)的規(guī)格為F30~F250。
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