[發明專利]光柵偏振片

有效

• 申請號: 201210183632.7
• 申請日: 2012-06-06
• 公開（公告）號: CN102681078A
• 公開（公告）日: 2012-09-19
• 發明（設計）人: 葉志成;崔宏青
• 申請（專利權）人: 昆山龍騰光電有限公司;上海交通大學;南京大學
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B5/18;G02B1/11
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 楊波

1.一種光柵偏振片，其特征在于，其包括：

基底以及多個柵線單元，所述多個柵線單元周期性地設置在所述基底的一個表面上，所述每個柵線單元分別包括光柵介質層、第一金屬層以及第二金屬層，所述光柵介質層設置在所述基底上，且所述光柵介質層包括靠近基底的底面、遠離基底的頂面、和兩個連接底面和頂面的側面，所述光柵介質層的頂面的寬度小于所述底面的寬度，所述第一金屬層設置在所述光柵介質層的頂面上，所述第二金屬層位于所述相鄰的光柵介質層之間，所述光柵介質層的頂面的高度大于所述第二金屬層的高度。

2.根據權利要求1所述的光柵偏振片，其特征在于，所述每個柵線單元的光柵介質層分別包括遠離所述基底的第一部分及靠近所述基底的第二部分；且所述第一部分的截面形狀為矩形，所述第二部分的截面形狀為梯形。

3.根據權利要求1所述的光柵偏振片，其特征在于，所述基底包括相對設置的第一表面及第二表面，所述多個柵線單元分別周期性地形成于所述第一表面及所述第二表面，并且，形成于所述第一表面上的柵線單元與形成于所述第二表面上的柵線單元關于所述基底相對稱。

4.根據權利要求1所述的光柵偏振片，其特征在于，所述基底包括相對設置的第一表面及第二表面，所述多個柵線單元周期性地形成于所述第一表面，所述第二表面上周期性地設置有多個光柵介質層，并且，所述第二表面上設置的光柵介質層與所述第一表面上的光柵介質層關于所述基底相對稱。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的光柵偏振片，其特征在于，進一步包括保護層，所述保護層形成于所述多個柵線單元上。

6.根據權利要求5所述的光柵偏振片，其特征在于，所述保護層由增透膜形成。

7.根據權利要求2所述的光柵偏振片，其特征在于，相鄰的光柵介質層的第二部分之間形成V型溝槽，所述第二金屬層對應于所述V型溝槽的部分形成其截面形狀為V型結構。

8.根據權利要求2所述的光柵偏振片，其特征在于，相鄰的光柵介質層的第二部分之間形成倒梯形溝槽，所述第二金屬層對應于所述倒梯形溝槽的部分形成其截面形狀為倒梯形結構。

9.根據權利要求1所述的光柵偏振片，其特征在于，所述光柵介質層底面的寬度為所述光柵介質層頂面寬度的1.4至1.8倍。

10.根據權利要求1所述的光柵偏振片，其特征在于，形成所述光柵介質層的材料與所述基底的材料相同。