[發(fā)明專利]一種超材料天線及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210183134.2 | 申請日： | 2012-06-05 |
| 公開（公告）號： | CN103296468A | 公開（公告）日： | 2013-09-11 |
| 發(fā)明（設計）人： | 劉若鵬;季春霖;岳玉濤;李雪;林云燕;沈旭 | 申請（專利權）人： | 深圳光啟創(chuàng)新技術有限公司 |
| 主分類號： | H01Q15/00 | 分類號： | H01Q15/00 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 何青瓦 |
| 地址： | 518034 廣東省深圳市福田*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 材料 天線 及其 制造 方法 | ||
1.一種超材料天線的制造方法，其特征在于，包括：
提供一HIPS基板；
在所述HIPS基板的第一表面上附著金屬箔片；
蝕刻所述金屬箔片，以形成超材料微結構層；
在所述HIPS基板的與所述第一表面相對的第二表面上附著反射層。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述HIPS基板的第一表面上附著金屬箔片的步驟包括：
在所述HIPS基板的所述第一表面上附著熱熔膠層；
在所述熱熔膠層上附著所述金屬箔片。
3.根據(jù)權利要求2所述的方法，其特征在于，所述HIPS基板通過在聚苯乙烯中添加微米級橡膠顆粒且以接枝方式連接所述聚苯乙烯以及所述橡膠顆粒獲得，所述HIPS基板厚度為0.01mm-2mm，相對密度為1.04-1.06，吸水性為0.10%-0.14%，體積電阻率大于1016Ωm。
4.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述蝕刻所述金屬箔片，以形成超材料微結構層的步驟包括：
在所述金屬箔片上附著光阻層；
對所述光阻層進行曝光；
對曝光后的所述光阻層進行顯影，以露出所述金屬箔片的局部區(qū)域；
利用蝕刻溶液蝕刻掉所述金屬箔片的所述局部區(qū)域，以形成所述超材料微結構層；
移除剩余的所述光阻層。
5.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述蝕刻所述金屬箔片，以形成超材料微結構層的步驟之后進一步包括：
使用常溫冷裱的方法在所述超材料微結構層的表面附著一層由PVC或PE材質形成的保護膜。
6.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述HIPS基板的與所述第一表面相對的第二表面上附著反射層的步驟包括：在所述第二表面上附著金屬薄膜，或者將金屬面或金屬器件固定到所述第二表面上。
7.一種超材料天線，其特征在于，所述超材料天線包括：
一HIPS基板，所述HIPS基板具有第一表面以及與所述第一表面相對設置的第二表面；
超材料微結構層，所述超材料微結構層附著于所述第一表面上；
保護膜，所述保護膜附著于所述超材料微結構層的表面上；
反射層，所述反射層附著于所述第二表面上。
8.根據(jù)權利要求7所述的超材料天線，其特征在于，所述超材料微結構層由金屬箔片經(jīng)蝕刻獲得。
9.根據(jù)權利要求7所述的超材料天線，其特征在于，所述HIPS基板與所述超材料微結構層之間設置有熱熔膠層。
10.根據(jù)權利要求7所述的超材料天線，其特征在于，所述反射層為附著于所述第二表面上的金屬薄膜，或者固定在所述第二表面上的金屬面或金屬器件。
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