[發(fā)明專利]鈷靶材組件的制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210182775.6
• 申請(qǐng)日: 2012-06-01
• 公開（公告）號(hào): CN103451606A
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚力軍;相原俊夫;大巖一彥;潘杰;王學(xué)澤;潘靖
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波江豐電子材料有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34;C23C18/32
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供鈷靶材，所述鈷靶材的鈷含量大于90%；

利用化學(xué)鍍工藝，在所述鈷靶材焊接面上形成鎳鍍層；

將化學(xué)鍍處理后的鈷靶材焊接至背板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，在所述鈷靶材焊接面上形成鎳鍍層前還依次進(jìn)行：

對(duì)所述鈷靶材表面進(jìn)行噴砂工藝；

對(duì)所述鈷靶材表面進(jìn)行活化處理；

對(duì)所述鈷靶材表面進(jìn)行水洗處理步驟。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，在對(duì)所述鈷靶材表面進(jìn)行噴砂工藝處理之前，以及在對(duì)所述鈷靶材表面進(jìn)行噴砂工藝之后、對(duì)所述鈷靶材表面進(jìn)行活化處理之前分別還包括對(duì)鈷靶材表面清洗的步驟。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，對(duì)所述鈷靶材表面進(jìn)行活化處理的活化劑為體積百分比是5%~15%的氫氟酸溶液。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，對(duì)所述鈷靶材表面進(jìn)行活化處理時(shí)間為30s~60s。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，所述水洗處理采用純凈水或者去離子水進(jìn)行。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，所述化學(xué)鍍的鍍液的PH值為4.0~5.0。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，所述化學(xué)鍍的鍍液的溫度控制在80℃~90℃。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，所述化學(xué)鍍的施鍍時(shí)間控制在30min~60min。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，所述鎳鍍層的厚度為6μm~10μm。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，所述背板的材質(zhì)為銅。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈷靶材組件的制作方法，其特征在于，所述背板的材質(zhì)為鋁，將化學(xué)鍍處理后的鈷靶材焊接至背板前，還進(jìn)行利用化學(xué)鍍工藝在所述背板的焊接面上形成鎳層的步驟。