[發明專利]顯示裝置

有效

• 申請號: 201210182666.4
• 申請日: 2012-06-01
• 公開（公告）號: CN102809816A
• 公開（公告）日: 2012-12-05
• 發明（設計）人: 木村泰一;藤吉純;栗谷川武;園田大介
• 申請（專利權）人: 株式會社日本顯示器東
• 主分類號: G02B26/02
• 分類號: G02B26/02;G09G3/34
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉

技術領域

本發明涉及一種顯示裝置。

背景技術

公知有一種顯示器，該顯示器在顯示裝置的各個像素中配置有基于MEMS(Micro?Electro?Mechanical?Systems、微機電系統)的光閘(快門)，并通過光閘的開閉來形成圖像。

作為這種顯示裝置，例如，在日本特開2008-197668號公報中公開了一種顯示器，該顯示器使用以MEMS為基礎的機械式光調制器并帶有背光源。另外，在日本特表2008-533510號公報中也公開了一種內裝有以MEMS為基礎的光調制器的顯示器裝置，并且該顯示器裝置的制造方法記載了與液晶顯示器的制造工藝具有互換性的意思。

在此，在于多個像素中具有作為光調制器的光閘組裝體的顯示裝置中，光閘組裝體由形成為板狀的光閘板和通過靜電力而對光閘板進行驅動的促動部(actuator)構成。

由于需要使光閘板在基板上以能夠移動的方式浮置，所以，作為制造光閘組裝體的工藝，例如，考慮有利用犧牲層并通過光刻(lithography)工序進行加工的工藝。

圖8A～圖8H是表示被考慮為利用犧牲層來制造光閘組裝體的方法的一個參考例的圖。在參考例的制造工序中，首先，如圖8A以及圖8B所示，通過兩次光刻工序而形成有成為犧牲層的抗蝕膜(resist)RSa和抗蝕膜RSb；接著，如圖8C所示，成膜導體層AS和金屬層AL。之后，經過進一步的光刻工序，而如圖8D所示地加工出涂敷在金屬層AL上的抗蝕膜RSc，進一步地，通過濕式蝕刻(wet?etching)使金屬層AL被除去(圖8E)，并通過各向異性干式蝕刻(dry?etching)以使形成于抗蝕膜RSb的側壁上的部分被除去的方式使導體層AS被除去(圖8F)。而且，在該各向異性干式蝕刻過程中，使抗蝕膜RSa和抗蝕膜RSb被除去(圖8G)，并且在剩余結構的整體上成膜絕緣層IS，形成第一支承部S?1和光閘板SH等(圖8H)。

因此，在上述參考例中，如圖8H的第一支承部S?1所示，通過不同的光刻工序形成有以未浮置在基板上的方式而形成的結構的下側部分和上側部分。

但是，當如圖8A～圖8H所示地制造光閘組裝體時，以在不同的光刻工序之間可能產生的對位偏移為原因，而存在產生膜應力的不平均性，且在光閘組裝體上發生變形的情況。

發明內容

本發明著眼于上述課題，以提供一種在具有以MEMS為基礎的光閘組裝體的顯示裝置上，能夠抑制光閘組裝體變形的發生的顯示裝置為目的。

為了解決上述課題，本發明的顯示裝置具有多個像素，該多個像素具有：形成為板狀的光閘板；和通過靜電力驅動所述光閘板的促動部，其特征在于，所述促動部具有：與所述光閘板連接的梁部；通過施加電壓而使所述梁部彎曲從而驅動所述光閘板的驅動電極；支承所述驅動電極并固定在基板上的第一支承部；和支承所述梁部并固定在所述基板上的第二支承部，所述第一支承部以及所述第二支承部的至少一方具有：以從所述基板離開的方式形成為平面狀的平面部分、和以從所述平面部分凹陷的方式形成，且與所述基板連接的凹部，所述凹部具有：從所述平面部分大致垂直地傾斜形成的垂直形成部分；和從所述垂直形成部分開始，以隨著向所述基板側前進而使傾斜變緩的方式形成的部分。

另外，在本發明的顯示裝置的其他方式中，還可以是，其特征在于，所述驅動電極以及所述梁部以所述平面部分為基準而在所述基板側形成。

另外，在本發明的顯示裝置的其他方式中，還可以是，其特征在于，所述驅動電極以及所述梁部通過與寬度方向相比在深度方向上較大的縱橫尺寸比而形成。

另外，在本發明的顯示裝置的其他方式中，還可以是，其特征在于，所述第一支承部具有所述凹部，所述驅動電極從俯視來看，以通過具有所述縱橫尺寸比的結構形成外延，且內側為中空的方式形成。

另外，在本發明的顯示裝置的其他方式中，還可以是，其特征在于，所述驅動電極以及所述梁部形成在比所述光閘板更深的位置上。

另外，在本發明的顯示裝置的其他方式中，還可以是，其特征在于，所述驅動電極以及所述梁部的所述基板側的前端尖細地形成。

根據本發明，能夠提供一種能夠抑制光閘組裝體上的變形的發生的顯示裝置。

附圖說明

圖1是概略性地表示本發明的第一實施方式的顯示裝置的示意圖。

圖2是表示第一實施方式的第一基板的等效電路的圖。

圖3A是表示第一實施方式的顯示裝置中的像素區域的情況的俯視圖。