[發明專利]一種乳腺機X射線劑量控制方法及系統有效
| 申請號: | 201210182293.0 | 申請日: | 2012-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN103445795A | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發明(設計)人: | 高建;付詩農;李躍;段年英 | 申請(專利權)人: | 北京國藥恒瑞美聯信息技術有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00 |
| 代理公司: | 深圳市君勝知識產權代理事務所 44268 | 代理人: | 王永文;楊宏 |
| 地址: | 100176 北京市大興區經*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 乳腺 射線 劑量 控制 方法 系統 | ||
1.一種乳腺機X射線劑量控制方法,其特征在于,包括以下步驟:
A、預設乳腺的性質與X射線的預設劑量值的對應關系;
B、對目標乳腺進行壓迫使目標乳腺厚度均勻,并將被壓迫后的目標乳腺固定;
C、確定目標乳腺的性質,根據目標乳腺的性質在所述對應關系中獲取與所述目標乳腺對應的預設劑量值;
D、采用所述預設劑量值對目標乳腺進行預曝光獲取預曝光圖像;
E、根據預曝光圖像、目標乳腺被壓迫后的厚度、以及對目標乳腺施加的壓迫力獲取目標乳腺在不同投照角度的X射線劑量值。
2.根據權利要求1所述的乳腺機X射線劑量控制方法,其特征在于,所述步驟A中,所述乳腺的性質包括致密性和非致密性,當乳腺為致密性乳腺時,采用30kV到35kV和20mAs到50mAs的X射線;當乳腺為非致密性乳腺時,采用25kV到29kV和5mAs到19mAs的X射線。
3.根據權利要求1所述的乳腺機X射線劑量控制方法,其特征在于,所述步驟C具體包括:
C1、獲取目標乳腺被壓迫后的厚度以及對目標乳腺施加的壓迫力;
C2、根據所述厚度及壓迫力判斷所述目標乳腺的性質。
4.根據權利要求1所述的乳腺機X射線劑量控制方法,其特征在于,所述步驟E具體包括:
E1、通過預曝光圖像獲取目標乳腺的邊緣尺寸,確定目標乳腺的位置;
E2、根據目標乳腺的邊緣尺寸、厚度以及位置獲取不同投照角度的X射線穿過目標乳腺的相應距離;
E3、根據所述厚度、壓迫力以及不同投照角度的X射線穿過目標乳腺的相應距離獲取不同投照角度的X射線劑量值。
5.根據權利要求4所述的乳腺機X射線劑量控制方法,其特征在于,所述步驟E1之前還包括:
判斷所述預曝光圖像是否存在過曝光或欠曝光,當存在過曝光或欠曝光時,對該目標乳腺對應的預設劑量值進行調節,獲取正常曝光的預曝光圖像。
6.根據權利要求1所述的乳腺機X射線劑量控制方法,其特征在于,還包括:
F、采用所述不同投照角度的X射線劑量值對目標乳腺進行曝光獲取不同投照角度的曝光圖像;
G、對所述不同投照角度的曝光圖像進行圖像重建獲得目標乳腺的層析圖像。
7.一種乳腺機X射線劑量控制系統,其特征在于,包括:
預設模塊,用于預設乳腺的性質與X射線的預設劑量值的對應關系;
目標乳腺固定模塊,用于對目標乳腺進行壓迫使目標乳腺厚度均勻,并將被壓迫后的目標乳腺固定;
預設劑量值獲取模塊,用于確定目標乳腺的性質,根據目標乳腺的性質在所述對應關系中獲取與所述目標乳腺對應的預設劑量值;
預曝光模塊,用于采用所述預設劑量值對目標乳腺進行預曝光獲取預曝光圖像;
X射線劑量值獲取模塊,用于根據預曝光圖像、目標乳腺被壓迫后的厚度、以及對目標乳腺施加的壓迫力獲取目標乳腺在不同投照角度的X射線劑量值。
8.根據權利要求7所述的乳腺機X射線劑量控制系統,其特征在于,所述預設劑量值獲取模塊包括:
厚度及壓迫力信息獲取單元,用于獲取目標乳腺被壓迫后的厚度以及對目標乳腺施加的壓迫力;
判斷單元,用于根據所述厚度及壓迫力判斷所述目標乳腺的性質。
9.根據權利要求7所述的乳腺機X射線劑量控制系統,其特征在于,所述X射線劑量值獲取模塊包括:
目標乳腺位置確定單元,用于通過預曝光圖像獲取目標乳腺的邊緣尺寸,確定目標乳腺的位置;
目標乳腺信息獲取單元,用于根據目標乳腺的邊緣尺寸、厚度以及位置獲取不同投照角度的X射線穿過目標乳腺的相應距離;
X射線劑量值獲取單元,用于根據所述厚度、壓迫力以及不同投照角度的X射線穿過目標乳腺的相應距離自動獲取不同投照角度的X射線劑量值。
10.根據權利要求7所述的乳腺機X射線劑量控制系統,其特征在于,所述系統還包括:
目標乳腺拍攝模塊,用于采用所述不同投照角度的X射線劑量值對目標乳腺進行曝光獲取不同投照角度的曝光圖像;
圖像重建模塊,用于對所述不同投照角度的曝光圖像進行圖像重建獲得目標乳腺的層析圖像。
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