[發(fā)明專利]一種基于腐蝕的AAQFN產(chǎn)品的二次塑封制作工藝在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210182216.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-06-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102779763A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-11-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭小偉;羅育光;崔夢(mèng);蒲鴻鳴 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華天科技(西安)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/56 | 分類號(hào): | H01L21/56 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 710018 陜西省西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 腐蝕 aaqfn 產(chǎn)品 二次 塑封 制作 工藝 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種扁平封裝件塑封工序中的改良工藝,尤其是一種基于腐蝕的AAQFN產(chǎn)品的二次塑封制作工藝,屬于集成電路封裝技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
集成電路是信息產(chǎn)業(yè)和高新技術(shù)的核心,是經(jīng)濟(jì)發(fā)展的基礎(chǔ)。集成電路封裝是集成電路產(chǎn)業(yè)的主要組成部分,它的發(fā)展一直伴隨著其功能和器件數(shù)的增加而邁進(jìn)。自20世紀(jì)90年代起,它進(jìn)入了多引腳數(shù)、窄間距、小型薄型化的發(fā)展軌道。無(wú)載體柵格陣列封裝(即AAQFN)是為適應(yīng)電子產(chǎn)品快速發(fā)展而誕生的一種新的封裝形式,是電子整機(jī)實(shí)現(xiàn)微小型化、輕量化、網(wǎng)絡(luò)化必不可少的產(chǎn)品。
無(wú)載體柵格陣列封裝元件,底部沒(méi)有焊球,焊接時(shí)引腳直接與PCB板連接,與PCB的電氣和機(jī)械連接是通過(guò)在PCB焊盤上印刷焊膏,配合SMT回流焊工藝形成的焊點(diǎn)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。該技術(shù)封裝可以在同樣尺寸條件下實(shí)現(xiàn)多引腳、高密度、小型薄型化封裝,具有散熱性、電性能以及共面性好等特點(diǎn)。
AAQFN封裝產(chǎn)品適用于大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路的封裝。AAQFN封裝的器件大多數(shù)用于手機(jī)、網(wǎng)絡(luò)及通信設(shè)備、數(shù)碼相機(jī)、微機(jī)、筆記本電腦和各類平板顯示器等高檔消費(fèi)品市場(chǎng)。掌握其核心技術(shù),具備批量生產(chǎn)能力,將大大縮小國(guó)內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)與國(guó)際先進(jìn)水平的差距,該產(chǎn)品有著廣闊市場(chǎng)應(yīng)用前景。
但是由于技術(shù)難度等限制,目前AAQFN產(chǎn)晶在市場(chǎng)上的推廣有一定難度,尤其是在可靠性方面,直接影響產(chǎn)品的使用及壽命,已成為AAQFN封裝件的技術(shù)攻關(guān)難點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,本發(fā)明提供一種基于腐蝕的AAQFN產(chǎn)品的二次塑封制作工藝,使集成電路框架與塑封體結(jié)合更加牢固,不受外界環(huán)境影響,直接提高產(chǎn)品的封裝可靠性,同時(shí)降低成本。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用一種基于腐蝕的AAQFN產(chǎn)品的二次塑封制作工藝,先在框架上用腐蝕的方法形成凹槽,然后采用二次塑封的方法,具體制作工藝按照如下步驟進(jìn)行:
第一步、晶圓減薄;晶圓減薄厚度為50μm~200u?m,粗糙度Ra?0.10um~0.30um;
第二步、劃片;
第三步、采用粘片膠上芯;
第四步、壓焊;
第五步、采用傳統(tǒng)塑封料進(jìn)行一次塑封;
第六步、后固化;
第七步、框架背面蝕刻凹槽;用三氯化鐵溶液在框架背面做局部開(kāi)窗半蝕刻,形成凹槽,深度控制在框架厚度的一半以內(nèi);
第八步、二次塑封;
第九步、后固化、磨膠、錫化、打印、產(chǎn)品分離、檢驗(yàn)、包裝、入庫(kù)。
所述的方法中的第二步中150μm以上的晶圓采用普通QFN劃片工藝;厚度在150μm以下晶圓,采用雙刀劃片機(jī)及其工藝;所述的方法中的第三步中上芯時(shí)采用的粘片膠可以用膠膜片(DAF)替換;所述的方法中的第八步二次塑封中
使用30~32um顆粒度的塑封料填充;所述的方法中的第四步、第六步、第九步均與常規(guī)AAQFN工藝相同。
本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明先在框架上用腐蝕的方法形成凹槽,然后采用二次塑封的方法,在一次塑封的塑封料和框架間形成更加有效的防拖拉結(jié)構(gòu),使集成電路框架與塑封體結(jié)合更加牢固,不受外界環(huán)境影響,直接提高產(chǎn)品的封裝可靠性,同時(shí),簡(jiǎn)單易行,生產(chǎn)效率高,降低成本。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明中引線框架剖面圖;
圖2為本發(fā)明中上芯后產(chǎn)品剖面圖;
圖3為本發(fā)明中壓焊后產(chǎn)品剖面圖;
圖4為本發(fā)明中一次塑封后產(chǎn)品剖面圖;
圖5為本發(fā)明中框架背面蝕刻后產(chǎn)品剖面圖。
圖中:1-引線框架、2-粘片膠、3-芯片、4-鍵合線、5-塑封體、6-蝕刻凹槽。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖1-5和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明,以方便技術(shù)人員理解。
實(shí)施例1
先在框架上用腐蝕的方法形成凹槽,然后采用二次塑封的方法,具體制作工藝按照如下步驟進(jìn)行:
第一步、晶圓減薄;晶圓減薄厚度為50μm,粗糙度Ra?0.10um;
第二步、采用雙刀劃片機(jī)及其工藝進(jìn)行劃片;
第三步、采用粘片膠上芯;
第四步、采用與常規(guī)AAQFN工藝相同的方法進(jìn)行壓焊;
第五步、采用傳統(tǒng)塑封料進(jìn)行一次塑封;
第六步、采用與常規(guī)AAQFN工藝相同的方法進(jìn)行后固化;
第七步、框架背面蝕刻凹槽;用三氯化鐵溶液在框架背面做局部開(kāi)窗半蝕刻,形成凹槽,深度控制在框架厚度的一半以內(nèi);
第八步、二次塑封;使用30um顆粒度的塑封料填充;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





