[發明專利]用于光刻裝置的散射測量調焦設備及方法在審
| 申請號： | 201210181487.9 | 申請日： | 2012-06-05 |
| 公開（公告）號： | CN103454065A | 公開（公告）日： | 2013-12-18 |
| 發明（設計）人： | 楊曉青;陸海亮;王帆 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | G01M11/02 | 分類號： | G01M11/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光輝 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 光刻 裝置 散射 測量 調焦 設備 方法 | ||
1.一種用于光刻裝置的散射測量調焦設備，包括：
一光學物鏡，所述光學物鏡的數值孔徑大于0.9；
一調焦組件，所述調焦組件在子午面和水平面具有不同光焦度；
一探測器，所述探測器用于探測一待測面經過所述光學物鏡及所述調焦組件所形成的光斑；以及
處理單元，與所述探測器電性連接，根據所述探測器獲得的光斑能量分布判斷待測面是否位于所述光學物鏡的焦深范圍內。
2.如權利要求1所述的用于光刻裝置的散射測量調焦設備，其特征在于，所述調焦組件為像散器件。
3.如權利要求1所述的用于光刻裝置的散射測量調焦設備，其特征在于，所述探測器為四象限探測器、四象限雪崩二極管、CCD或者CMOS。
4.如權利要求1所述的用于光刻裝置的散射測量調焦設備，其特征在于，所述探測器的探測探測區域四等分，且所述光斑均勻分布所述探測器表面。
5.一種用于光刻裝置的散射測量調焦方法，其特征在于，包括：
將一待測面經過一光學物鏡及一調焦組件形成一光斑；
將一探測器放置于一位置處探測所述光斑；
根據所述探測器獲得的光斑能量分布判斷待測面是否位于所述光學物鏡的焦深范圍內，若是則結束所述用于光刻裝置的散射測量調焦方法，否則執行下一步驟；以及
沿所述光學物鏡的光軸方向改變所述待測面與所述光學物鏡之間的距離，使所述待測面位于所述光學物鏡的焦深范圍內。
6.如權利要求5所述的用于光刻裝置的散射測量調焦方法，其特征在于，所述光學物鏡的數值孔徑大于0.9。
7.如權利要求5所述的用于光刻裝置的散射測量調焦方法，其特征在于，所述調焦組件在子午面和水平面具有不同光焦度。
8.如權利要求5所述的用于光刻裝置的散射測量調焦方法，其特征在于，所述調焦組件為像散器件。
9.如權利要求5所述的用于光刻裝置的散射測量調焦方法，其特征在于，所述探測器為四象限探測器、四象限雪崩二極管、CCD或者CMOS。
10.如權利要求5所述的用于光刻裝置的散射測量調焦方法，其特征在于，所述探測器的探測探測區域四等分，且所述光斑均勻分布所述探測器表面。
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