[發明專利]一種擇優取向生長的硫化二銅薄膜無效
| 申請號: | 201210181358.X | 申請日: | 2012-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN102709351A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發明(設計)人: | 劉科高;孫昌;李靜;許斌;石磊 | 申請(專利權)人: | 山東建筑大學 |
| 主分類號: | H01L31/0392 | 分類號: | H01L31/0392;H01L31/032;H01L31/18 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 擇優取向 生長 硫化 薄膜 | ||
技術領域
本發明屬于半導體薄膜技術領域,尤其涉及一種擇優取向生長的硫化二銅薄膜。
背景技術
隨著社會和經濟的發展,我國能源消費總量劇增,能源緊缺及消費能源帶來的污染已成為國內社會發展中的突出問題,因此開發利用清潔能源對保護環境、經濟可持續發展和構筑和諧社會都有重要的意義。為了更充分的利用太陽能這種清潔、安全和環保的可再生資源,近年來用于太陽電池的光電材料的研究和發展日益受到重視。
過渡金屬硫化物由于其有著良好的光電性能而被廣泛應用,其中銅的硫化物是一種重要的過渡金屬硫化物。Cu和S組成的化合物由于它們在組成計量比、晶體形貌、結構、價態等方面的多變性,導致這些化合物有一些特殊的光電性質,這引起了人們極大關注。作為一種重要的半導體材料,銅的硫化物被廣泛地應用于太陽能電池、濾光片、納米開關、熱電或光電轉換器、導電電極、超導體、器皿傳感器等方面。自從發現CuxS/CdS異質結構有光伏特效應以來,CuxS作為一種重要的光電半導體材料而受到人們的重視。作為P型半導體,Cu2S、Cu1.8S和CuS的禁帶寬度分別為1.2、1.5及2.0eV。由于其復雜的結構和價態以及可調的禁帶寬度,是理想的廉價、高效的太陽能電池材料。
目前銅的硫化物薄膜的制備方法主要有電化學方法、連續離子層吸收與反應、原子層沉積(ALD)、微波輔助化學浴沉積、化學蒸汽反應、濺射離子層氣象反應、化學浴沉積。由于硫化銅薄膜的原料成本低,因此是一種非常有發展前途的光電薄膜材料。控制硫化物半導體薄膜的生長取向是調控其性能的重要途徑,因此擇優取向生長的硫化物薄膜是研究的熱點之一。已出版文獻(Liu?KG,Liu?H,Wang?JY,et?al,Synthesis?and?characterization?of?Cu2Seprepared?by?hydrothermal?co-reduction.Journal?of?Alloys?and?Compounds.Vol.484,No.1-2,SEP182009:674-676)中制備了Cu2Se粉末材料,雖然與本專利申請中的得到材料的方法有相似之處,但前者是粉末,而且成分不同。而本專利申請中所得為薄膜材料,這與粉末材料在形成和晶體生長過程及機理將會不同,粉末材料難以得到同一晶體取向擇優生長的材料。
象前面所述方法一樣,其它方法也沒有制備擇優取向的硫化二銅薄膜。與本發明相關的還有如下文獻:
[1]A.Bollero,M.Grossberg,B.Asenjo,M.T.Gutiérrez,CuS-based?thin?films?for?architectural?glazingapplications?produced?by?co-evaporation:Morphology,optical?and?electrical?properties,Surface&CoatingsTechnology?204(2009)593-600.
主要描述了共蒸法制備建筑物玻璃用CuS薄膜及其形貌和光電性能。
[2]Mudi?Xin,KunWei?Li,Hao?Wang,Synthesis?of?CuS?thin?films?by?microwave?assisted?chemical?bathdeposition,Applied?Surface?Science?256(2009)1436-1442.
主要描述了微薄輔助化學浴沉積法合成CuS薄膜。
[3]Y.Rodríguez-Lazcano,H.Martínez,M.Calixto-Rodríguez,A.Rodríguez,Properties?of?CuS?thin?filmstreated?in?air?plasma,Thin?Solid?Films?517(2009)5951-5955.
主要描述了化學沉積CuS薄膜,并在空氣等離子體中進行后處理。
[4]M.Ali?Yil?dirim,Aytunc?Ates,Aykut?Astam,Annealing?and?light?effect?on?structural,optical?and?electricalproperties?of?CuS,CuZnS?and?ZnS?thin?films?grown?by?the?SILAR?method,Physica?E?41(2009)1365-1372.
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





