[發(fā)明專利]一種制粒環(huán)模激光淬火工藝無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210181206.X | 申請(qǐng)日： | 2012-06-01 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN103451383A | 公開（公告）日： | 2013-12-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吳勁鋒;張克平;黃曉鵬;李青;連瀟;周蓓蓓;戴立勛 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 甘肅農(nóng)業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | C21D1/09 | 分類號(hào)： | C21D1/09;C21D9/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 730070 *** | 國(guó)省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 制粒環(huán)模 激光 淬火 工藝 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種制粒環(huán)模的激光淬火工藝，其特征在于包括下列步驟：(1)以9SiCr為材料，硬度要求為HRC40～50；(2)打磨去除制粒環(huán)模工作表面粘附物，然后用酒精清洗烘干，以便于均勻噴涂吸光涂層；(3)對(duì)制粒環(huán)模工作表面采用碳素吸光涂料進(jìn)行噴涂預(yù)處理，以提高激光的吸收率；(4)風(fēng)干涂層；(5)采用DL-HL-T10000B型高功率橫流CO2激光器掃描制粒環(huán)模工作表面，使工作表面實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光淬火工藝，其特征是：光斑面積＝光斑最大光距×光斑帶寬＝2mm×10mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光淬火工藝，其特征是：激光掃描速度850～1200mm/s，能量密度為11.25J/mm2，功率為1600～2200W，功率密度為80～110W/mm2。
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