[發明專利]一種制取鎳箔的方法無效
| 申請號: | 201210180758.9 | 申請日: | 2012-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN102719801A | 公開(公告)日: | 2012-10-10 |
| 發明(設計)人: | 王芳鎮;肖冬明;禹松濤;劉軍位;周阿洋;武金升 | 申請(專利權)人: | 金川集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/16 | 分類號: | C23C16/16;C23C16/44 |
| 代理公司: | 中國有色金屬工業專利中心 11028 | 代理人: | 李迎春;李子健 |
| 地址: | 737103*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制取 方法 | ||
1.一種制取鎳箔的方法,其特征在于其制備過程采用含鎳的水淬合金為原料,在合成釜內與一氧化碳氣體進行羰化反應制取羰基鎳氣體;再將制得羰基鎳氣體在分解器的進行熱分解,將分解的鎳沉積在懸于合成釜中部的基板上,經降溫、出釜、剝離得到鎳箔。
2.根據權利要求1所述的一種制取鎳箔的方法,其特征在于所述的含鎳的水淬合金為含鎳重量大于67.25%的水淬合金。
3.根據權利要求1所述的一種制取鎳箔的方法,其特征在于所述的一氧化碳氣體的純度為大于99.?9%。
4.根據權利要求1所述的一種制取鎳箔的方法,其特征在于所述的制取羰基鎳氣體過程控制合成釜中的壓力為9MPa~12MPa、溫度為150℃~240℃,羰化反應時間為48小時~72小時,制得羰基鎳氣體。
5.根據權利要求1所述的一種制取鎳箔的方法,其特征在于將羰基鎳氣體與CO氣體按體積配比1:10-1:20在帶外加熱套的桶狀分解器,基板固定在分解器中部,羰基鎳在被加熱的基體的上進行分解、沉積,降溫剝離后得到鎳箔,分解器加熱溫度250-400℃,分解壓力控制在0.02-0.05MPa,基板為鎳板。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





