[發明專利]pH計清洗裝置及其清洗方法

無效

• 申請號: 201210180017.0
• 申請日: 2012-06-01
• 公開（公告）號: CN102706943A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 李兵;鄭曉偉;程言君;陳立平;趙可卉
• 申請（專利權）人: 輕工業環境保護研究所
• 主分類號: G01N27/38
• 分類號: G01N27/38
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國勝

技術領域

本發明涉及pH檢測技術領域，特別涉及一種pH計清洗裝置及其清洗方法，適用于對厭氧污水處理系統的pH計進行自動清洗。

背景技術

目前工業上采用的在線pH計中，多以玻璃電極作為測量電極，即pH電極，以甘汞電極作為參比電極。在廢水處理工藝及諸多生產工藝流程中，添加或產生的某些物質具有粘性，容易粘附在pH電極的玻璃膜上，從而隔離了pH電極與工藝介質的接觸，造成pH值的失真和pH計壽命的減少。為了減少這種現象的發生，確保pH計連續穩定工作，就必須對pH電極進行定期清洗。

對于在線pH計來說，如果測量的介質比較干凈，則可以根據經驗定期取出pH計進行人工清洗；但被測介質雜質含量較多時，人工清洗的方式就會費工費時，且會中斷測量，影響自動檢測，所以一般采用自動清洗，常見的pH計的清洗方式包括超聲波清洗和噴射清洗兩種。

超聲波清洗方式是在pH計附近安裝一個可以發生超聲波的裝置，由它發出的超聲波對在線pH計的電極進行自動清洗，超聲波的強弱可以通過調節超聲波的振蕩頻率來實現。安裝方式采取縱向方式，即超聲波的探頭安裝在pH計的下方。

溶液噴射清洗的方式是在pH計的附近裝有清洗噴嘴，根據清洗的要求，噴頭定期噴水或其他溶液(如1％濃度的稀硝酸溶液或稀鹽酸溶液)，用水清洗時的噴射壓力較高一些，溶液的噴射由程序控制。

雖然現有pH自動清洗方法在原理和設計上有所不同，但都有一個共同特征，就是必須將清洗部件安裝在液面以下，并且在被測溶液中完成測定。目前沒有專用于厭氧污水處理系統的pH計自動清洗產品或裝置，傳統方式無法滿足厭氧廢水處理系統的在線pH計的清洗，主要因為：

超聲波自動清洗方式必須安裝在液面以下，并且以被測介質作為微波傳導介質，對于厭氧處理工藝來說，微生物產生的大量有機物質粘性較強，清洗后依然會有雜質粘附于pH電極上；

噴射清洗法由于需要使用弱酸溶液清洗，清洗之后的弱酸不能排出系統，很容易導致厭氧水處理系統中的酸堿平衡環境被破壞，影響正常的處理工藝。

發明內容

(一)要解決的技術問題

本發明要解決的技術問題是提供一種應用于厭氧污水處理系統的pH計自動清洗裝置及其清洗方法，該裝置無需安裝在厭氧反應器液面以下，能夠根據設定的程序對pH計進行清洗，即使使用化學溶液清洗方式，也不會對厭氧系統的酸堿環境造成影響，并可以保證整個清洗過程中不會有空氣混入厭氧系統中。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本發明提供一種pH計清洗裝置，其包括pH測試單元10、清洗噴頭9、污水取樣管路12、清洗主管路19、排水管路14和排氣回水管路18；污水取樣管路12、排水管路14分別與pH測試單元10連通；清洗噴頭9位于pH測試單元10內，清洗主管路19伸入pH測試單元10，并與清洗噴頭9連通；排氣回水管路18的一端與測試單元10連通，另一端具有分支，分成排氣管路15和回水管路16。

其中，排氣管路15上設有壓力傳感器7和第五電磁閥5，回水管路16上設有第六電磁閥6。

其中，污水取樣管路12上設有第二電磁閥2，排水管路14上設有第四電磁閥4。

其中，清洗主管路19的上游具有分支，分別是清洗液管路13和純凈水管路11，清洗液管路13上設有第三電磁閥3，純凈水管路11上設有第一電磁閥1。

其中，該pH計清洗裝置還具有控制電路，用于控制第一電磁閥1、第二電磁閥2、第三電磁閥3、第四電磁閥4、第五電磁閥5和第六電磁閥6的開閉。

其中，pH電極8位于pH測試單元10內部的頂端，清洗噴頭9安裝于pH測試單元10內的pH電極8下方。

本發明還提供一種pH計清洗方法，包括以下步驟：

關閉第二電磁閥2和第六電磁閥6；

打開第四電磁閥4和第五電磁閥5，此時，排氣管路15和pH測試單元中的污水開始通過排水管路14自動排出；

系統靜置5～15s鐘，確保污水被全部排出；

開啟第一電磁閥1，純凈水流向清洗噴頭9，并由清洗噴頭9噴出，按照預先設定的清洗方式清洗pH傳感器；

清洗后的水通過排水管路14直接排出清洗裝置。

關閉第一電磁閥1，系統靜置3～10s鐘，確保所有清洗水排出pH測試單元；

關閉第四電磁閥4，開啟第二電磁閥2，此時厭氧系統中的污水開始注入pH測試單元10；

隨著污水的注入，整個系統中的空氣被慢慢從排氣管路15排出；