[發(fā)明專利]一種LED芯片的鍵合方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210179068.1 | 申請日: | 2012-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN102709204A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 萬遠(yuǎn)濤;張昊翔;封飛飛;金豫浙;高耀輝;李東昇;江忠永 | 申請(專利權(quán))人: | 杭州士蘭明芯科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/603 | 分類號: | H01L21/603;H01L33/00 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 310018 浙江省杭州市杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 led 芯片 方法 | ||
1.一種LED芯片的鍵合方法,其特征在于,包括步驟:
提供一轉(zhuǎn)移襯底和一異質(zhì)襯底氮化物半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),在所述轉(zhuǎn)移襯底上生長第一金屬層,在所述異質(zhì)襯底氮化物半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)上生長第二金屬層,其中,所述第一金屬層、或所述第二金屬層、或者所述第一金屬層和所述第二金屬層均形成有凹槽;
所述的第一金屬層和第二金屬層通過鍵合方法形成第三金屬層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的LED芯片的鍵合方法,其特征在于:所述凹槽的形成方法為濕法腐蝕、干法刻蝕、納米壓印、剝離中的任何一種或者幾種方法的組合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的LED芯片的鍵合方法,其特征在于:形成所述凹槽的俯視形狀為圓形、弧形、矩形、規(guī)則多邊形或者不規(guī)則多邊形的一種或者多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的LED芯片的鍵合方法,其特征在于:所述凹槽的俯視形狀為圓形,圓形的直徑為0.1μm-100μm,相鄰凹槽的間隔為0.1μm-150μm,凹槽的深度為0.1μm-2μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的LED芯片的鍵合方法,其特征在于:所述凹槽的俯視形狀為矩形,矩形的長為0.1μm-100μm,矩形的寬為0.1μm-100μm,相鄰凹槽的間隔為0.1μm-150μm,凹槽的深度為0.1μm-2μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的LED芯片的鍵合方法,其特征在于:所述轉(zhuǎn)移襯底使用的材料為砷化鎵、氮化鎵、氮化鋁、氮化鋁家、玻璃、氧化鋅、硅或者鋁與硅兩種材料的合金,或銅、鉬、鎢、鎳四種金屬中至少兩種金屬的組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的LED芯片的鍵合方法,其特征在于:所述的第一金屬層和第二金屬層使用的材料為金、錫、鉑、鎳、鈦、鋁、銀、鈀、鉛、銦中的一種或者多種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的LED芯片的鍵合方法,其特征在于:所述的第一金屬層和第二金屬層分別采用蒸發(fā)、濺射、電鍍或者噴涂的方法形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的LED芯片的鍵合方法,其特征在于:所述鍵合方法為熱壓鍵合、熱聲鍵合、超聲鍵合中的任意一種方法或者兩種方法。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的LED芯片的鍵合方法,其特征在于:所述LED芯片的結(jié)構(gòu)為垂直結(jié)構(gòu)、倒裝結(jié)構(gòu)或平面結(jié)構(gòu)中的一種。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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