[發明專利]一種屏閉罩模具

無效

• 申請號: 201210178181.8
• 申請日: 2012-06-01
• 公開（公告）號: CN102658325A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發明（設計）人: 余桂萍
• 申請（專利權）人: 蘇州旭創精密模具有限公司
• 主分類號: B21D37/08
• 分類號: B21D37/08
• 代理公司: 上海碩力知識產權代理事務所 31251
• 代理人: 王建國

技術領域

本發明涉及一種模具，尤其涉及一種屏閉罩模具。

背景技術

屏蔽罩主要應用于手機、GPS等領域，是防止電磁干擾（EMI）、對PCB板上的元件及LCM起屏蔽作用的重要零件，因此其需求量也非常大。而模具制造技術是現代化模具工業發展的基礎，具有成型快、能實現批量加工，一般的加工精度得到保證，而隨著電子等行業的迅速發展，對模具加工的精度、性能要求也越來越高，即不僅有較高的尺寸精度，同樣也要求在產品加工工藝簡單、在沖壓或折彎的過程中減少材料的浪費；現有的屏蔽罩產品在模具沖壓加工過程中，采用沖壓很多次才能成型，并存在定位不準確的效果，造成了屏蔽罩成品加工時間以及產品質量的提升，加大的投入的成本。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種縮短加工時間、減少投入成本、并能提升產品質量的屏閉罩模具。

為了實現上述目的，本發明提供了一種屏閉罩模具，包括上模以及與上模相對應的下模，所述上模與下模之間還包括用于屏閉罩二端進行45°折彎的第一工站，以及，用于對所述45°折彎后的屏閉罩二端進行90°折彎的第二工站。

上述的屏閉罩模具，優選的，所述第一工站包括二個平行設置的第一上沖壓凸塊以及與所述二個第一上沖壓凸塊對應的二個第一下沖壓凸塊，所述第一上沖壓凸塊與第一下沖壓凸塊的接觸面為45°斜面。

上述的屏閉罩模具，優選的，所述第二工站包括二個平行設置的第二上沖壓凸塊，以及第二下沖壓凸塊，所述第二下沖壓凸塊上表面設有第一上凸塊，所述二個第二上沖壓凸塊分別位于所述第一上凸塊的二側，所述二個第二上沖壓凸塊與所述第一上凸塊向對應的一側均設有第一凹槽。

上述的屏閉罩模具，優選的，所述凹槽頂端內側為圓角過渡，所述圓角的半徑為0.4mm。

上述的屏閉罩模具，優選的，所述第一下沖壓凸塊的下表面還設有第一定位孔。

上述的屏閉罩模具，優選的，所述第二下沖壓凸塊的下面表還設有第二定位孔。

本發明的技術效果在于：采用先45°折彎后90°折彎的二次成型，縮短了成型時間，以及在二個沖壓凸塊下端設有定位孔，這樣防止在折彎成型過程中出現移位現象，保證了產品的質量，降低了加工成本。

附圖說明

圖1為本發明的第一工站的結構圖；

圖2為本發明的第二工站的結構圖；

圖3為本發明加工出的屏蔽罩結構圖。

具體實施方式

下面，結合附圖對本發明做進一步的說明。

如圖1-3所示，本發明提供本發明提供了一種屏閉罩模具，包括上模以及與上模相對應的下模，所述上模與下模之間還包括用于屏閉罩二端進行45°折彎的第一工站，以及，用于對所述45°折彎后的屏閉罩二端進行90°折彎的第二工站，

見圖1所示，所述第一工站包括二個平行設置的第一上沖壓凸塊1以及與所述二個第一上沖壓凸塊1對應的二個第一下沖壓凸塊2，所述第一上沖壓凸塊1與第一下沖壓凸塊2的接觸面為45°斜面。

且為了在第一工站折彎過程中不出現屏閉罩移位現象，在所述的第一下沖壓凸塊2的下表面還設有第一定位孔3，在第一定位孔3內再安裝第一定位銷。

在加工之前使用的為一平面材料。

在第一工站加工過程中，將其放置其第一下沖壓凸塊2的上表面，然后通過二個第一上沖壓凸塊1對其二端進行折彎，由于第一上沖壓凸塊1與第一下沖壓凸塊2的接觸面為45°斜面，這樣，將平面屏蔽罩的二端折彎為45°角。

見圖2所示，所述第二工站包括二個平行設置的第二上沖壓凸塊4，以及第二下沖壓凸塊5，所述第二下沖壓凸塊5上表面設有第一上凸塊6，所述二個第二上沖壓凸塊4分別位于所述第一上凸塊6的二側，所述二個第二上沖壓凸塊4與所述第一上凸塊6向對應的一側均設有第一凹槽7，所述的凹槽7頂端內側為圓角過渡，所述圓角的半徑為0.4mm。

且為了在第二工站折彎過程中不出現屏閉罩移位現象，在所述第二下沖壓凸塊5的下面表還設有第二定位孔8。

在第二工站加工過程中，將上述經過二端折彎為45°角的屏蔽罩放置于第二下沖壓凸塊5的第一上凸塊6上，并通過二側的第二上沖壓凸塊4進行90°折彎，且凹槽7頂端內側為0.4mm圓角過渡，從而折彎出的屏閉罩的二個折彎轉角處均為圓弧過渡，減少了應力集中，而本發明通過二次折彎縮短了成型時間。

雖然本發明己以較佳實施例披露如上，但本發明并非限定于此。任何本領域技術人員，在不脫離本發明的精神和范圍內，均可作各種更動與修改，因此本發明的保護范圍應當以權利要求所限定的范圍為準。