[發(fā)明專利]利用多極透鏡調(diào)整粒子束流的光闌及包含該光闌的設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210177109.3 | 申請日: | 2012-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN103456589A | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李家錚 | 申請(專利權(quán))人: | 睿勵科學(xué)儀器(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/09 | 分類號: | H01J37/09;H01J37/26;H01J37/147 |
| 代理公司: | 北京漢昊知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11370 | 代理人: | 羅朋 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 利用 多極 透鏡 調(diào)整 粒子束 光闌 包含 設(shè)備 | ||
1.一種光闌,其包括:
-光闌板,其上包括多個分別具有不同孔徑的小孔;
-多個多極透鏡,包括位于該光闌板入射側(cè)的第一組多個入射多極透鏡及位于該光闌板出射側(cè)的第二組多個出射多極透鏡;
其中,所述第一組多個入射多極透鏡分別具有適合電場和/或磁場,用于將穿過其中的入射粒子束流調(diào)整至與初始光軸平行且相距預(yù)定距離的位置,以使所述入射例子束流通過所述光闌板上的特定小孔;
所述第二組多個出射多極透鏡分別具有與所述第一組入射多極透鏡相對應(yīng)的適合電場和/或磁場,以使得穿過所述光闌板上的特定小孔的出射粒子束流回歸到所述初始光軸的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光闌,其中,所述粒子束流包括電子束,所述多極透鏡具有適合電場。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光闌,其中,所述多極透鏡包括八極透鏡。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光闌,其中,所述第一組入射八極透鏡包括兩個入射八極透鏡,所述第二組出射八極透鏡包括兩個出射八極透鏡。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光闌,其中,
所述第二個入射八極透鏡的電場與第一個入射八極透鏡的電場方向相反;
所述第二個出射八極透鏡的電場與第一個出射八極透鏡的電場方向相反。
6.一種掃描電鏡,其包括如權(quán)利要求1至5中任一項所述的光闌。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掃描電鏡,還包括:
偏轉(zhuǎn)控制裝置,用于根據(jù)所需粒子束流的大小來控制所述光闌中多個多極透鏡的電場和/或磁場,以使初始粒子束流穿過所述光闌板上與所需粒子束流大小相對應(yīng)的小孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中,所述偏轉(zhuǎn)控制裝置包括:
第一確定裝置,用于根據(jù)所需粒子束流的大小來查詢預(yù)設(shè)偏轉(zhuǎn)數(shù)值表,以確定與所需粒子束流的大小相對應(yīng)的所述多極透鏡電場和/或磁場的相關(guān)調(diào)整參數(shù);
第一調(diào)整裝置,用于根據(jù)所述相關(guān)調(diào)整參數(shù)來控制所述光闌中多個多極透鏡的電場和/或磁場,以使初始粒子束流穿過所述光闌板上與所需粒子束流大小相對應(yīng)的小孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中,所述偏轉(zhuǎn)控制裝置包括:
第二確定裝置,用于根據(jù)所需粒子束流的大小來確定初始粒子束流所需穿過的所述光闌板上的小孔;
第二調(diào)整裝置,用于根據(jù)所確定的小孔相應(yīng)地調(diào)整多個多極透鏡的電場和/或磁場的電壓,以使所述初始粒子束流與初始光軸平行地穿過該所確定的小孔。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9中任一項所述的掃描電鏡,所述掃描電鏡包括以下任一種:
-常規(guī)掃描電鏡;
-環(huán)境掃描電鏡;
-場發(fā)射掃描電鏡;
-掃描透射電鏡。
11.一種用于調(diào)節(jié)掃描電鏡的方法,其中,所述掃描電鏡包括如權(quán)利要求1至5中任一項所述的光闌,其中,所述方法包括以下步驟:
A根據(jù)所需粒子束流的大小來控制所述光闌中多個多極透鏡的電場和/或磁場,以使初始粒子束流穿過所述光闌板上與所需粒子束流大小相對應(yīng)的小孔。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,所述步驟A包括以下步驟:
-根據(jù)所需粒子束流的大小來查詢預(yù)設(shè)偏轉(zhuǎn)數(shù)值表,以確定與所需粒子束流的大小相對應(yīng)的所述多極透鏡電場和/或磁場的相關(guān)調(diào)整參數(shù);
-根據(jù)所述相關(guān)調(diào)整參數(shù)來控制所述光闌中多個多極透鏡的電場和/或磁場,以使初始粒子束流穿過所述光闌板上與所需粒子束流大小相對應(yīng)的小孔。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,所述步驟A包括以下步驟:
-根據(jù)所需粒子束流的大小來確定初始粒子束流所需穿過的所述光闌板上的小孔;
-根據(jù)所確定的小孔相應(yīng)地調(diào)整多個多極透鏡的電場和/或磁場的電壓,以使所述初始粒子束流與初始光軸平行地穿過該所確定的小孔。
14.根據(jù)權(quán)利要求11至13中任一項所述的方法,其中,所述掃描電鏡包括以下任一種:
-常規(guī)掃描電鏡;
-環(huán)境掃描電鏡;
-場發(fā)射掃描電鏡;
-掃描透射電鏡。
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