[發明專利]基于碲化鎘的薄膜光伏器件的多層N型堆棧及其制造方法有效
| 申請號: | 201210175095.1 | 申請日: | 2012-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN102810593A | 公開(公告)日: | 2012-12-05 |
| 發明(設計)人: | S.D.費爾德曼-皮博迪;R.D.戈斯曼 | 申請(專利權)人: | 初星太陽能公司 |
| 主分類號: | H01L31/073 | 分類號: | H01L31/073;H01L31/0296;H01L31/18 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 柯廣華;朱海煜 |
| 地址: | 美國科*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 碲化鎘 薄膜 器件 多層 堆棧 及其 制造 方法 | ||
1.?一種薄膜光伏器件(10),包括:
玻璃(12);
所述玻璃(12)上的透明傳導氧化層(14);
所述透明傳導氧化層(14)上的多層n型堆棧(16),其中所述多層n型堆棧(16)包括第一層(17)和第二層(18),所述第一層(17)包含鎘和硫,而所述第二層(18)包含鎘和氧;以及
所述多層n型堆棧(16)上的吸收器層(20)。
2.?如權利要求1所述的器件,其中,所述吸收器層(20)包含碲化鎘。
3.?如權利要求1所述的器件,其中,所述第一層(17)包含硫化鎘。
4.?如權利要求1所述的器件,其中,所述第二層(18)包含氧化鎘。
5.?如權利要求1所述的器件,其中,所述第二層(18)還包含硫。
6.?如權利要求5所述的器件,其中,所述第二層(18)包含CdSOx,其中x為3或4。
7.?如權利要求1所述的器件,其中,所述多層n型堆棧(16)還包括第三層(19),所述第三層(19)包含鎘。
8.?如權利要求7所述的器件,其中,所述第三層(19)還包括氧。
9.?如權利要求7所述的器件,其中,所述第三層(19)還包括硫。
10.?如權利要求7所述的器件,其中,所述第三層(19)包含硫化鎘、氧化鎘、亞硫酸鎘或硫酸鎘中的至少兩種。
11.?如權利要求7所述的器件,其中,所述第三層(19)設在所述第一層(17)與所述第二層(18)之間。
12.?如權利要求1所述的器件,還包括:
電阻透明緩沖層(15),其位于所述透明傳導氧化層(14)和所述多層n型堆棧(16)之間。
13.?如權利要求1所述的器件,其中,所述多層n型堆棧(16)具有的厚度在約10?nm與約100?nm之間。
14.?一種形成薄膜光伏器件(10)的方法,所述方法包括:
將第一層(17)沉積在透明傳導氧化層(14)上,其中所述透明傳導氧化層(14)在玻璃基板(12)上,以及其中所述第一層(17)包含鎘和硫;
將第二層(18)沉積在所述透明傳導氧化層(14)上,其中所述第二層(18)包含鎘和氧,以及其中所述第一層(17)和所述第二層(18)形成多層n型堆棧(16);以及
將碲化鎘層(20)沉積在所述多層n型堆棧(16)上。
15.?如權利要求14所述的方法,還包括:
將第三層(19)沉積在所述透明傳導氧化層(14)上,其中所述第三層(19)包括鎘,并且其中所述第一層(17)、所述第二層(18)、以及所述第三層(19)形成多層n型堆棧(16)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





